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J-GLOBAL ID：200903089963542204

真空処理装置

Inventor： 亦野 勝次 ,  牧野 昭孝 ,  秋山 博 ,  弥益 裕明
Applicant, Patent owner： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
Agent (1)： 武 顕次郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002198854
Publication number (International publication number)：2004040052
Application date： Jul. 08, 2002
Publication date： Feb. 05, 2004
Summary：

【課題】簡易な構成で、処理台及び排気ダクトを任意の温度に調整することのできる真空処理装置を提供する。【解決手段】被処理物を減圧雰囲気中で処理する処理室3、該処理室3内に配置され前記被処理物を載置する処理台4、前記処理室3と該処理室3内を減圧する排気ポンプの間を接続する排気ダクト11、並びに冷媒循環装置10から冷媒供給路を介して供給される冷媒を前記処理台4及び排気ダクト11にそれぞれ循環して供給する冷媒通路14a,14bを備えた真空処理装置であって、前記処理台4及び排気ダクト11を循環する冷媒通路の何れか一方の流入側に冷媒の温度を調整する温度調整装置14を備えた。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

被処理物を減圧雰囲気中で処理する処理室、該処理室内に配置され前記被処理物を載置する処理台、前記処理室と該処理室内を減圧する排気ポンプの間を接続する排気ダクト、並びに冷媒循環装置から冷媒供給路を介して供給される冷媒を前記処理台及び排気ダクトにそれぞれ循環して供給する冷媒通路を備えた真空処理装置であって、 前記処理台及び排気ダクトを循環する冷媒通路の何れか一方の流入側に冷媒の温度を調整する温度調整装置を備えたことを特徴とする真空処理装置。

IPC (3)：

H01L21/3065 ,  B01J3/00 ,  H01L21/68

FI (3)：

H01L21/302 101G ,  B01J3/00 M ,  H01L21/68 R

F-Term (24)：

5F004AA16 ,  5F004BA04 ,  5F004BB14 ,  5F004BB18 ,  5F004BB22 ,  5F004BB25 ,  5F004BC08 ,  5F004BD04 ,  5F004BD05 ,  5F004BD06 ,  5F004BD07 ,  5F031CA02 ,  5F031HA16 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031HA39 ,  5F031HA40 ,  5F031JA46 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031MA32 ,  5F031NA04 ,  5F031NA05 ,  5F031PA30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平3-004927
  
• プラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-208008   Applicant：東京エレクトロン株式会社