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J-GLOBAL ID：200903089993229365

溶射皮膜の評価方法および装置

Inventor：
本 多 啓 三

About 本 多 啓 三


Applicant, Patent owner：
株式会社東芝

About 株式会社東芝


Agent (1)： 佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995073438
Publication number (International publication number)：1996269672
Application date： Mar. 30, 1995
Publication date： Oct. 15, 1996
Summary：
【要約】【目的】 溶射皮膜の断面組織採取を行なわずに溶射皮膜の特性評価を行う。【構成】 溶射ガン1によって溶射された基材4の表面の溶射粒子1aの状態をカメラ装置9で捕え、このカメラ装置9で捕えた画像を基に、画像処理手段(コンピュータ11)によって溶射粒子1aのうち基材4表面に堆積せずに反射した反射粒子の比率を求める。そして、駆動手段7で溶射アングル(溶射ガン1の軸線と基材4表面とのなす角度)を変化させた場合の反射粒子1bの比率が、予め設定した限界溶射アングルより低度の溶射アングルで基準値に達したか否かにより、評価手段(コンピュータ11)によって溶射皮膜15の特性の評価を行う。
Claim (excerpt)：
溶射ガンによって溶射粒子を溶射することにより基材の表面に形成される溶射皮膜の特性を評価する溶射皮膜の評価方法において、前記溶射ガンと前記基材との相対位置を変化させながら溶射ガンによって溶射粒子を基材の表面に溶射し、前記溶射ガンによって溶射された基材の表面の溶射粒子の状態をカメラ装置で捕え、このカメラ装置で捕えた画像を基に、前記溶射粒子のうち前記基材表面に堆積せずに反射した反射粒子の比率を求め、前記溶射ガンと前記基材との相対位置を変化させた場合の反射粒子の比率が、予め設定した限界相対位置より低度の相対位置で基準値に達したか否かにより溶射皮膜の特性の評価を行うことを特徴とする溶射皮膜の評価方法。
IPC (4)：
C23C 4/00 ,  B05D 1/08 ,  B05D 3/00 ,  G01N 21/88
FI (4)：
C23C 4/00 ,  B05D 1/08 ,  B05D 3/00 D ,  G01N 21/88 Z
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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