現像装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：京本直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997034874
Publication number (International publication number)：1998232498
Application date： Feb. 19, 1997
Publication date： Sep. 02, 1998
Summary：

【要約】【課題】現像装置において、現像液のウェハ13裏面への回り込みがなく常に現像液層15の厚さを一定にする。【解決手段】過剰に液盛りされる現像液をウェハ13を回転させながら削ぎ落し所望の厚さの現像液層15に均しかつ均し取る現像液を伝え下方に流す液盛制御板1を設け、ウェハ13上に常に厚さ一定の現像液層を形成し、均し取られる現像液をウェハ13の外のカップ8内に落し込んでいる。

Claim (excerpt)：

感光性樹脂が塗布された半導体基板を保持する回転チャックと、前記感光性樹脂に現像液を滴下する現像液ノズルと、前記感光性樹脂にリンス液を滴下するリンス液ノズルとを備える現像装置において、前記半導体基板の周縁部から所定の間隔に離間しかつ該半導体基板面に傾斜して配置される面を有するとともに回転する前記半導体基板に滴下され盛上げられる前記現像液の外周の上縁部に前記面を接触させ均し均し取られる該現像液を後方に伝え流し出す液盛制御板を備えることを特徴とする現像装置。

IPC (2)：

G03F 7/30 502 , H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/30 502 , H01L 21/30 569 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

基板現像方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-191881 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社

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