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J-GLOBAL ID：200903090000249496
位置検出装置及び露光装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998100705
Publication number (International publication number)：1999297600
Application date： Apr. 13, 1998
Publication date： Oct. 29, 1999
Summary：
【要約】【課題】プロセスオフセットを小さくすること。【解決手段】位置検出用パターンを照明する照明手段と、照明された前記位置検出用パターンからの光を対物光学系を介して集光する集光手段と、集光手段を介した前記位置検出用パターンからの光を検出する光電検出手段とを有し、該光電検出手段により得られる検出信号に基づいて前記位置検出用パターンの位置を検出するものであって、前記集光手段中の前記対物光学系は複数の光学素子からなり、前記対物光学系の該複数の光学素子の光学面の研磨面精度の平均値が前記光の中心波長をλとするとき、RMS0.01λ(λ:前記光の中心波長)以下となるように、前記複数の光学素子が形成される。
Claim (excerpt)：
位置検出用パターンを照明する照明手段と、照明された前記位置検出用パターンからの光を対物光学系を介して集光する集光手段と、該集光手段を介した前記位置検出用パターンからの光を検出する光電検出手段とを有し、該光電検出手段により得られる検出信号に基づいて前記位置検出用パターンの位置を検出する位置検出装置において、前記集光手段中の前記対物光学系は複数の光学素子からなり、前記光の中心波長をλとするとき、前記対物光学系の該複数の光学素子の光学面の研磨面精度から少なくともアス成分を取り除いた後のRMSの平均値が0.01λ以下となるように、前記複数の光学素子が形成されることを特徴とする位置検出装置。
IPC (3)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
H01L 21/30 515 D
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 516 A
, H01L 21/30 525 E
