キノンジアジドスルホン酸エステルの製法及び該製法により得られたキノンジアジドスルホン酸エステルを含有してなる感放射線性樹脂組成物

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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：久保山隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993039756
Publication number (International publication number)：1994250387
Application date： Mar. 01, 1993
Publication date： Sep. 09, 1994
Summary：

【要約】【目的】キノンジアジドスルホン酸エステルの新たな製法、並びに該製法により得られたキノンジアジドスルホン酸エステルを含有してなる感放射線性樹脂組成物を提供する。【構成】ヒドロキシル基を有する化合物とキノンジアジドスルホン酸ハライドとを溶媒中で塩基の存在下にエステル化させること、エステル化により得られた反応混合物を水中に注加してキノンジアジドスルホン酸エステルを結晶化させること、結晶化により得られたスラリーを1〜4時間攪拌すること、及び攪拌後、スラリーからキノンジアジドスルホン酸エステルを分離することを特徴とするキノンジアジドスルホン酸エステルの製法、並びに上記製法により得られたキノンジアジドスルホン酸エステル及びアルカリ可溶性樹脂を含有してなる感放射線性樹脂組成物。【効果】上記製法により保存安定性の良好な感放射線性樹脂組成物が得られ、該組成物を用いると集積回路作製時の歩留りを良好にすることができる。

Claim (excerpt)：

ヒドロキシル基を有する化合物とキノンジアジドスルホン酸ハライドとを溶媒中で塩基の存在下にエステル化させること、エステル化により得られた反応混合物を水中に注加してキノンジアジドスルホン酸エステルを結晶化させること、結晶化により得られたスラリーを1〜4時間攪拌すること、及び攪拌後、スラリーからキノンジアジドスルホン酸エステルを分離することを特徴とするキノンジアジドスルホン酸エステルの製法。

IPC (4)：

G03F 7/022 , C07C303/28 , C07C309/69 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

ラクトン溶媒を使用してのナフトキノンジアジドエステルの製法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-361204 Applicant：ヘキスト・セラニーズ・コーポレーシヨン
特開昭63-267941
集積回路製造用ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-114885 Applicant：三菱化成株式会社

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