半導体装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (8)：鈴江武彦 , 河野哲 , 中村誠 , 蔵田昌俊 , 峰隆司 , 福原淑弘 , 村松貞男 , 橋本良郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005186854
Publication number (International publication number)：2007000994
Application date： Jun. 27, 2005
Publication date： Jan. 11, 2007
Summary：

【課題】アクチュエータの動作を制御することが容易なMEMSデバイスを備えた半導体装置を提供する。【解決手段】半導体装置は、半導体基板11と、半導体基板11の上方に設けられ、かつ上方向に動くアクチュエータ25と、アクチュエータ25により駆動される第1の電極層17と、第1の電極層17の上方に設けられ、かつ第2の電極層24を含むキャップ部27とを含む。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

半導体基板と、前記半導体基板の上方に設けられ、かつ上方向に動くアクチュエータと、前記アクチュエータにより駆動される第1の電極層と、前記第1の電極層の上方に設けられ、かつ第2の電極層を含むキャップ部とを具備することを特徴とする半導体装置。

IPC (7)：

B81B 3/00 , H01H 59/00 , H01L 41/09 , H01L 41/08 , H01L 41/187 , H01L 41/193 , H01L 41/22

FI (9)：

B81B3/00 , H01H59/00 , H01L41/08 C , H01L41/08 D , H01L41/18 101B , H01L41/18 101C , H01L41/18 101D , H01L41/18 102 , H01L41/22 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

米国特許第6,359,374号明細書
米国特許第6,377,438号明細書
マトリックスリレー
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-238566 Applicant：オムロン株式会社

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Cited by examiner (3)

マトリックスリレー
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-238566 Applicant：オムロン株式会社
マイクロデバイスの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-159626 Applicant：新光電気工業株式会社
透過型光変調装置及びその実装方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-080827 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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