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J-GLOBAL ID：200903090382762481

欠陥検査装置およびその方法

Inventor： 野口 稔 ,  前田 俊二 ,  芝田 行広 ,  二宮 隆典
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 高橋 明夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999019035
Publication number (International publication number)：2000223541
Application date： Jan. 27, 1999
Publication date： Aug. 11, 2000
Summary：

【要約】【課題】基板上にパターンを形成し対象物を製作して行く製造工程で発生する異物等の欠陥を検出する際に、照明の形状を最適化することにより、検出感度およびスループットを向上する欠陥検査装置およびその方法を提供することにある。【解決手段】本発明では、照明範囲内の照明照度分布のうち照度が最小になる領域の照度が最大になるような照明を実現し、信号のS/Nを最大にすることにより、検出感度の向上およびスループットの向上を実現する。

Claim (excerpt)：

回路パターンが形成された被検査対象基板上における検出領域に対して、照明光学系により前記検出領域の光軸から周辺部までの長さをほぼ標準偏差とするガウス分布からなる照度分布を有するように整形されたガウスビーム光束で照明し、該整形されたガウスビーム光束で照明された被検査対象基板上の検出領域から得られる光像を検出光学系により前記検出領域に対応する受光面を有する検出器の該受光面に結像させて該検出器から前記検出領域に対応する画像信号を検出し、該検出される画像信号に基いて前記検出領域に存在する異物等の欠陥を検査することを特徴とする欠陥検査方法。

IPC (2)：

H01L 21/66 ,  G01N 21/88

FI (2)：

H01L 21/66 J ,  G01N 21/88 645 A

F-Term (22)：

2G051AA65 ,  2G051AB01 ,  2G051AB02 ,  2G051BB01 ,  2G051BB11 ,  2G051CA03 ,  2G051CA06 ,  2G051CD06 ,  2G051DA06 ,  4M106BA04 ,  4M106BA05 ,  4M106BA07 ,  4M106CA39 ,  4M106CA41 ,  4M106DB02 ,  4M106DB04 ,  4M106DB07 ,  4M106DB08 ,  4M106DB12 ,  4M106DB19 ,  4M106DB20 ,  4M106DJ01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 異物検査方法及びその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-072604   Applicant：株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社
• パターン検査方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-000585   Applicant：株式会社日立製作所