設備運用状態の監視装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：三谷惠 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999243058
Publication number (International publication number)：2001067117
Application date： Aug. 30, 1999
Publication date： Mar. 16, 2001
Summary：

【要約】【課題】プロセス状態量の特性変化に対する外乱要因の影響の度合いをプラント運転要員またはプラント保守要員に視覚上わかりやすい出力形態で通知することができる設備運用状態の監視装置を得ることである。【解決手段】入力部12から時系列的に読み込んだプラント状態量を履歴データとしてサンプルデータ記憶部13に記憶し、主成分分析部14は、履歴データに基づき主成分分析して各主成分毎に固有ベクトル、固有値、寄与率を算出する。そして、表示データ計算部15は履歴データの項目に対応した多次元の直交座標軸と座標軸上の履歴データに対し、多次元直交座標軸を俯瞰する視点を固有ベクトル方向からの角度となるように表示データを回転させて表示装置16に表示出力する。

Claim (excerpt)：

監視対象とするプラント機器設備の状態を表す複数のプロセス状態量を時系列で取り込み、取り込んだプロセス状態量に基づいて前記プラント機器設備の運用状態の変化を監視する設備運用状態の監視装置において、前記複数のプロセス状態量をそれぞれの検出器を介して時系列で取り込む入力部と、前記入力部で取り込んだ各々の前記プロセス状態量についての履歴データを記憶するサンプルデータ記憶部と、前記各履歴データを主成分分析して各主成分毎に固有ベクトル、固有値、寄与率を算出する主成分分析部と、各履歴データに対応した多次元直交座標軸およびその多次元直交座標軸上の履歴データに対し前記多次元直交座標軸を俯瞰する視点を前記主成分の固有ベクトル方向からの角度となるように回転させた表示データを作成し表示装置に出力する表示データ計算部とを備えたことを特徴とする設備運用状態の監視装置。

F-Term (6)：

5H223AA02 , 5H223BB02 , 5H223CC01 , 5H223EE06 , 5H223EE30 , 5H223FF09

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

プラント異常検知装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-068905 Applicant：株式会社東芝
特開平4-016725
回転機器の監視診断装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-078707 Applicant：株式会社東芝

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