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J-GLOBAL ID：200903090716033940

化合物半導体装置

Inventor： 藤本 英俊 ,  新田 康一 ,  石川 正行 ,  菅原 秀人 ,  国分 義弘 ,  山本 雅裕
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995221816
Publication number (International publication number)：1996148718
Application date： Aug. 30, 1995
Publication date： Jun. 07, 1996
Summary：

【要約】【課題】高輝度且つ高信頼性を有する窒化物系化合物半導体からなる発光素子を提供する。【解決手段】サファイア基板11上に発光ダイオード40が配設される。発光ダイオード40は、この順に気相成長されたn型GaN層43、n型InGaN発光層44、p型AlGaN層45、p型GaN層46を具備する。p型GaN層46には及びp型AlGaN層45には、夫々1×1020cm-3、2×1019cm-3の濃度でマグネシウムが含有される。n型GaN層43及びn型InGaN発光層44には5×1018cm-3の濃度で水素が含有され、これにより、p型GaN層46及びp型AlGaN層45からのマグネシウムの拡散が防止される。

Claim (excerpt)：

結晶基板と、前記基板に支持されるように気相成長により形成された、n型若しくはi型の窒化物系化合物からなる半導体膜と、を具備し、前記半導体膜が、その3次元成長から2次元成長への移行を早めるため、1×1015cm-3〜1×1017cm-3のマグネシウム若しくは1×1015cm-3〜1×1017cm-3の亜鉛を含有することを特徴とする化合物半導体装置。

IPC (4)：

H01L 33/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 31/04 ,  H01S 3/18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-070874   Applicant：日亜化学工業株式会社
• 特開平4-068579