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J-GLOBAL ID：200903090718570918

投影露光装置

Inventor：
石川 弘美

About 石川 弘美

, 
西畑 純弘

About 西畑 純弘


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (2)： 柳田 征史 ,  佐久間 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003127892
Publication number (International publication number)：2004335639
Application date： May. 06, 2003
Publication date： Nov. 25, 2004
Summary：
【課題】投影露光装置において、変調された光の2次元パターンを投影する際に、ディストーションを抑制してMTF性能を向上させるとともに、光源から発せられた光の利用効率を高める。【解決手段】像側テレセントリックな第1結像光学系51および第2結像光学系52のいずれかにおいて、入射瞳位置を間に挟んで隣り合う2つの瞳隣接レンズのうちの少なくとも一方のレンズのレンズ面のうちの少なくとも一方を非球面にした結像光学系50を用意し、光源ユニット60から発せられた光束をDMD80で空間光変調し、このDMD80で空間光変調された2次元パターンを上記結像光学系50を通して感光材料150上に結像させる。【選択図】 図2
Claim (excerpt)：
光源から発せられた光を空間光変調する空間光変調手段と、該空間光変調手段により空間光変調された光の2次元パターンを感光材料上に結像させるための像側テレレセントリックな結像光学系とを備え、前記結像光学系を通して前記2次元パターンを前記感光材料上に投影し、該2次元パターンを前記感光材料に露光する投影露光装置であって、 前記結像光学系の入射瞳位置を間に挟んで隣り合う2つの瞳隣接レンズのうちの少なくとも一方のレンズが、該レンズのレンズ面のうちの少なくとも一方を非球面にしたものであることを特徴とする投影露光装置。
IPC (5)：
H01L21/027 ,  G02B13/18 ,  G02B13/22 ,  G02B13/24 ,  G03F7/20
FI (5)：
H01L21/30 529 ,  G02B13/18 ,  G02B13/22 ,  G02B13/24 ,  G03F7/20 501
F-Term (30)：
2H087KA21 ,  2H087LA01 ,  2H087NA02 ,  2H087PA08 ,  2H087PA17 ,  2H087PB08 ,  2H087QA02 ,  2H087QA03 ,  2H087QA07 ,  2H087QA12 ,  2H087QA14 ,  2H087QA21 ,  2H087QA25 ,  2H087QA34 ,  2H087QA41 ,  2H087QA45 ,  2H087RA05 ,  2H087RA12 ,  2H087RA13 ,  2H087RA32 ,  2H087RA42 ,  2H097CA12 ,  2H097CA17 ,  2H097GB04 ,  2H097LA09 ,  5F046BA07 ,  5F046BA10 ,  5F046CB02 ,  5F046CB12 ,  5F046CB27
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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