希土類ケイ酸塩系蛍光体の製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：柳川泰男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004065942
Publication number (International publication number)：2004300418
Application date： Mar. 09, 2004
Publication date： Oct. 28, 2004
Summary：

【課題】希土類ケイ酸塩系蛍光体の新規な製造方法を提供する。【解決手段】1)希土類カルボン酸塩をアルコキシアルコールと一緒に加熱して溶液とする工程、2)この溶液にケイ素アルコキシドおよび付活剤元素A、そして必要に応じて付活剤元素Lの化合物を添加して、混合する工程、3)得られた混合液に水分を作用させて混合液をゲル化する工程、および4)得られたゲル体を熱分解する工程からなる組成式:LuxYyGdzSiOp:aA,bLで表される蛍光体の製造法。[AはCe、Pr,Nd,Sm,Eu等、LはZr、Nb,Hf,Ta,Sn等である。x,y,z、a、bはそれぞれ、x≧0,y≧0,z≧0、1.5≦x+y+z≦2.2、2×10-5<a<6×10-2、0≦b<10-2であり、pは化合物の電荷を0にする数値を表す。]【選択図】なし

Claim (excerpt)：

基本組成式(I):

IPC (3)：

C09K11/08 , C09K11/79 , G21K4/00

FI (3)：

C09K11/08 B , C09K11/79 , G21K4/00 M

F-Term (33)：

2G083AA03 , 2G083BB01 , 2G083CC01 , 2G083CC02 , 2G083CC07 , 2G083DD02 , 2G083DD04 , 2G083DD14 , 2G083DD19 , 4H001CA04 , 4H001CA08 , 4H001CF02 , 4H001XA08 , 4H001XA14 , 4H001XA39 , 4H001XA64 , 4H001XA71 , 4H001YA40 , 4H001YA41 , 4H001YA50 , 4H001YA58 , 4H001YA59 , 4H001YA60 , 4H001YA62 , 4H001YA63 , 4H001YA65 , 4H001YA66 , 4H001YA67 , 4H001YA68 , 4H001YA69 , 4H001YA70 , 4H001YA72 , 4H001YA73

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

特開平2-300696号公報
特許第3290497号公報
放射線画像形成方法および放射線画像形成材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-400426 Applicant：富士写真フイルム株式会社

Cited by examiner (9)

特開平4-016512
蓄光性蛍光顔料の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-006540 Applicant：シチズン時計株式会社
特開平4-068077

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