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J-GLOBAL ID:200903090718634053
希土類ケイ酸塩系蛍光体の製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
柳川 泰男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004065942
Publication number (International publication number):2004300418
Application date: Mar. 09, 2004
Publication date: Oct. 28, 2004
Summary:
【課題】希土類ケイ酸塩系蛍光体の新規な製造方法を提供する。【解決手段】1)希土類カルボン酸塩をアルコキシアルコールと一緒に加熱して溶液とする工程、2)この溶液にケイ素アルコキシドおよび付活剤元素A、そして必要に応じて付活剤元素Lの化合物を添加して、混合する工程、3)得られた混合液に水分を作用させて混合液をゲル化する工程、および4)得られたゲル体を熱分解する工程からなる組成式:LuxYyGdzSiOp:aA,bLで表される蛍光体の製造法。[AはCe、Pr,Nd,Sm,Eu等、LはZr、Nb,Hf,Ta,Sn等である。x,y,z、a、bはそれぞれ、x≧0,y≧0,z≧0、1.5≦x+y+z≦2.2、2×10-5<a<6×10-2、0≦b<10-2であり、pは化合物の電荷を0にする数値を表す。]【選択図】なし
Claim (excerpt):
基本組成式(I):
IPC (3):
C09K11/08
, C09K11/79
, G21K4/00
FI (3):
C09K11/08 B
, C09K11/79
, G21K4/00 M
F-Term (33):
2G083AA03
, 2G083BB01
, 2G083CC01
, 2G083CC02
, 2G083CC07
, 2G083DD02
, 2G083DD04
, 2G083DD14
, 2G083DD19
, 4H001CA04
, 4H001CA08
, 4H001CF02
, 4H001XA08
, 4H001XA14
, 4H001XA39
, 4H001XA64
, 4H001XA71
, 4H001YA40
, 4H001YA41
, 4H001YA50
, 4H001YA58
, 4H001YA59
, 4H001YA60
, 4H001YA62
, 4H001YA63
, 4H001YA65
, 4H001YA66
, 4H001YA67
, 4H001YA68
, 4H001YA69
, 4H001YA70
, 4H001YA72
, 4H001YA73
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
-
特開平2-300696号公報
-
特許第3290497号公報
-
放射線画像形成方法および放射線画像形成材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-400426
Applicant:富士写真フイルム株式会社
Cited by examiner (6)
-
特開平4-016512
-
蓄光性蛍光顔料の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-006540
Applicant:シチズン時計株式会社
-
特開平4-068077
-
特開昭62-190633
-
無機蛍光体およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-004697
Applicant:日立マクセル株式会社
-
特開平4-120189
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