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J-GLOBAL ID：200903090733579913

乱反射防止膜用重合体とその製造方法

Inventor： ミン ホ ジョン ,  スン エウン ホン ,  ジャエ チャン ジョン ,  ゲウン ス リー ,  キ ホ バイク
Applicant, Patent owner： ヒュンダイ エレクトロニクス インダストリーズ カンパニー リミテッド
Agent (1)： 吉田 研二 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000388093
Publication number (International publication number)：2001192411
Application date： Dec. 21, 2000
Publication date： Jul. 17, 2001
Summary：

【要約】【課題】 64M、256M、1G、4G DRAMの超微細バターンの形成時に使用でき、製品の収率を増大させることができる乱反射防止膜用重合体とその製造方法を提供する。【解決手段】 反射防止膜に使用される化合物自体が波長193nm及び248nmの波長の光を吸収できるように、重合体に吸光度の高い発色団を含有するように設計し、また、有機反射防止膜の成形性、気密性、耐溶解性などを付与するため、コーティング後、ハードベイク時に、樹脂内のエポキシ構造の開環反応で架橋させるメカニズムを導入した。

Claim (excerpt)：

下記の構造を有する乱反射防止膜用化合物。【化1】ここで、R10、R11はそれぞれ側鎖又は主鎖置換された炭素数1〜10のアルキル基を、R12は水素又はメチル基を示す。

IPC (11)：

C08F 16/34 ,  C08F 2/14 ,  C08F 4/32 ,  C08F 8/02 ,  C08F220/30 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/04 ,  C09D 5/00 ,  C09D129/00 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/027

FI (11)：

C08F 16/34 ,  C08F 2/14 ,  C08F 4/32 ,  C08F 8/02 ,  C08F220/30 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/04 ,  C09D 5/00 Z ,  C09D129/00 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/30 574

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特公昭39-003982
  
• 特公昭45-037031
  
• 特公昭39-027869
  
• 反射防止コーティング組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-188850   Applicant：シップレーカンパニーエルエルシー