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J-GLOBAL ID：200903090811834992

イオン発生装置

Inventor：
後藤 英敏

About 後藤 英敏


Applicant, Patent owner：
シャープ株式会社

About シャープ株式会社


Agent (3)： 佐野 静夫 ,  山田 茂樹 ,  小寺 淳一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002327010
Publication number (International publication number)：2004164918
Application date： Nov. 11, 2002
Publication date： Jun. 10, 2004
Summary：
【課題】特別な装置が不要で洗浄やふき取りの手間もなく放電面に付着した埃を飛ばして除去することのできるイオン発生装置を提供する。【解決手段】イオン発生素子210の放電面210Aにたまった埃を飛ばすために、通常よりも高い電圧を印加する。通常の電圧は、オゾン発生や騒音の低減、節電、耐電性等を考慮して、ピーク値が3〜4kVのパルス電圧に設定されているが、トランスで昇圧することにより、電圧のピーク値はさらに高くすることができる。例えば、1.2〜1.5倍(ピーク値)に昇圧して電極に印加すると、放電面210Aに微振動が発生し、たまった埃が剥離されるとともに、まとわりが解かれて細かな塵となり、放電面210Aから飛散して周辺に塵が浮遊する。【選択図】 図2
Claim (excerpt)：
誘電体と、この誘電体の放電面に設けられた第1電極と、前記誘電体の材料が介在するように第1電極に対向して設けられた第2電極とから成るイオン発生素子と、前記電極間に所定の電圧を印加する高電圧発生回路とを備えたイオン発生装置において、 前記第1,第2電極間に、前記所定の電圧とは異なる電圧を印加することが可能なことを特徴とするイオン発生装置。
IPC (1)：
H01T23/00
FI (1)：
H01T23/00
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)

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