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J-GLOBAL ID：200903091095439439

エレクトロルミネッセンス素子の製造方法

Inventor：
飯泉 安広

About 飯泉 安広

, 
下河原 匡哉

About 下河原 匡哉


Applicant, Patent owner：
大日本印刷株式会社

About 大日本印刷株式会社


Agent (2)： 山下 昭彦 ,  岸本 達人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007256588
Publication number (International publication number)：2009087760
Application date： Sep. 28, 2007
Publication date： Apr. 23, 2009
Summary：
【課題】本発明は、量子ドットを含有する発光層を有し、リフトオフ法により発光層を安定してパターニングすることが可能であり、寿命特性が良好なEL素子の製造方法を提供することを主目的とする。【解決手段】本発明は、第1電極層が形成された基板上にフォトレジスト層を形成するフォトレジスト層形成工程と、上記フォトレジスト層をパターン露光し、現像して、発光領域の上記フォトレジスト層が除去されるように上記フォトレジスト層をパターニングするフォトレジスト層パターニング工程と、上記フォトレジスト層がパターン状に形成された上記基板上に、周囲にシランカップリング剤が配置された量子ドットを含有する発光層形成用塗工液を塗布し、硬化して、発光層を形成する発光層形成工程と、残存する上記フォトレジスト層を除去して、上記フォトレジスト層上の上記発光層をリフトオフする発光層パターニング工程とを有することを特徴とするEL素子の製造方法を提供する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
第1電極層が形成された基板上にフォトレジスト層を形成するフォトレジスト層形成工程と、 前記フォトレジスト層をパターン露光し、現像して、発光領域の前記フォトレジスト層が除去されるように前記フォトレジスト層をパターニングするフォトレジスト層パターニング工程と、 前記フォトレジスト層がパターン状に形成された前記基板上に、周囲にシランカップリング剤が配置された量子ドットを含有する発光層形成用塗工液を塗布し、硬化して、発光層を形成する発光層形成工程と、 残存する前記フォトレジスト層を除去して、前記フォトレジスト層上の前記発光層をリフトオフする発光層パターニング工程と を有することを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
IPC (3)：
H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/20
FI (3)：
H05B33/10 ,  H05B33/14 B ,  H05B33/20
F-Term (11)：
3K107AA06 ,  3K107BB01 ,  3K107CC21 ,  3K107CC45 ,  3K107DD53 ,  3K107DD57 ,  3K107DD70 ,  3K107DD98 ,  3K107GG06 ,  3K107GG12 ,  3K107GG28
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)

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