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J-GLOBAL ID：200903091107095684

モノマーの製造方法

Inventor：
村田 直志

About 村田 直志

, 
園部 寛

About 園部 寛

, 
田村 公夫

About 田村 公夫

, 
吉田 康一

About 吉田 康一


Applicant, Patent owner：
三菱レイヨン株式会社

About 三菱レイヨン株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000060308
Publication number (International publication number)：2001247513
Application date： Mar. 06, 2000
Publication date： Sep. 11, 2001
Summary：
【要約】【課題】 アルコールの脱水物の含有量が少ないレジスト用モノマーをエステル交換反応により製造する方法を提供する。【解決手段】 原料エステルと原料アルコールとのエステル交換反応によりレジスト用ポリマーの原料モノマーを製造する方法において、原料エステルおよび原料アルコール中の水分含有率を200ppm以下となるように脱水した後、エステル交換反応を開始することを特徴とするレジスト用ポリマーの原料モノマーの製造方法。
Claim (excerpt)：
原料エステルと原料アルコールとのエステル交換反応によりレジスト用ポリマーの原料モノマーを製造する方法において、原料エステルおよび原料アルコール中の水分含有率を200ppm以下となるように脱水した後、エステル交換反応を開始することを特徴とするレジスト用ポリマーの原料モノマーの製造方法。
IPC (9)：
C07C 67/03 ,  B01J 31/12 ,  C07C 69/54 ,  C07D307/33 ,  C07D309/30 ,  G03F 7/038 601 ,  C07B 61/00 300 ,  C08F 20/18 ,  C08F 20/28
FI (9)：
C07C 67/03 ,  B01J 31/12 X ,  C07C 69/54 B ,  C07D309/30 D ,  G03F 7/038 601 ,  C07B 61/00 300 ,  C08F 20/18 ,  C08F 20/28 ,  C07D307/32 Q
F-Term (29)：
2H025AA01 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  4C037FA10 ,  4C062BB60 ,  4H006AA02 ,  4H006AB46 ,  4H006AC13 ,  4H006AC48 ,  4H006BA10 ,  4H006BA11 ,  4H006BJ30 ,  4H006KA03 ,  4H006KE20 ,  4H039CA42 ,  4H039CA66 ,  4H039CD10 ,  4H039CD40 ,  4J100AL08P ,  4J100BC07P ,  4J100BC53P ,  4J100CA01 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
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