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J-GLOBAL ID：200903091285095825

パターン形成体の製造方法

Inventor： 小林 弘典 ,  岡部 将人 ,  山本 学
Applicant, Patent owner： 大日本印刷株式会社
Agent (1)： 石川 泰男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999053774
Publication number (International publication number)：2000249821
Application date： Mar. 02, 1999
Publication date： Sep. 14, 2000
Summary：

【要約】【課題】 パターン形成体の製造に際して、高精度にパターンを形成することが可能であり、露光後の後処理が不要で、かつ製造されたパターン形成体内に光触媒が含有されていないことから、パターン形成体自体の劣化の心配もないパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】 本発明は、少なくとも光触媒含有層を有する光触媒含有層側基板と、少なくとも前記光触媒含有層中の光触媒の作用により特性の変化する特性変化層を有するパターン形成体用基板とを、前記光触媒含有層および前記特性変化層が接触するように配置した後、露光することにより、露光した部分の特性変化層の特性を変化させ、次いで光触媒含有層側基板を取り外すことにより、特性変化層上に特性の変化したパターンを有するパターン形成体を得ることを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供することにより上記課題を解決する。

Claim (excerpt)：

少なくとも光触媒含有層を有する光触媒含有層側基板と、少なくとも前記光触媒含有層中の光触媒の作用により特性の変化する特性変化層を有するパターン形成体用基板とを、前記光触媒含有層および前記特性変化層が接触するように配置した後、露光することにより、露光した部分の特性変化層の特性を変化させ、次いで光触媒含有層側基板を取り外すことにより、特性変化層上に特性の変化したパターンを有するパターン形成体を得ることを特徴とするパターン形成体の製造方法。

F-Term (4)：

2H048BA64 ,  2H048BB14 ,  2H048BB37 ,  2H048BB42

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• X線マスク
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-282181   Applicant：日本電信電話株式会社, エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社