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J-GLOBAL ID：200903091296716597

乾燥装置

Inventor： 廣島 正一
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994265591
Publication number (International publication number)：1996122232
Application date： Oct. 28, 1994
Publication date： May. 17, 1996
Summary：

【要約】【目的】基板試料上の液滴を乾燥させる際に不純物金属が基板中に拡散しないように基板自身を加熱することなしに液滴を乾燥させる。【構成】被乾燥液滴5の載ったSiウエハ4を設置する試料設置台1と、その上方に遠赤外線ランプ2を有し、試料設置台1と遠赤外線ランプ2の間に基板試料と同一材質(Si)のフィルタ3を配置する。フィルタ3は液滴5を効率よく乾燥させる波長の赤外線を透過させるが、Siウエハ4を加熱する波長の赤外線を除去するので、Siウエハ4を加熱することなしに液滴5をすばやく乾燥できる。

Claim (excerpt)：

被乾燥液滴を置載した基板試料を設置する為の試料設置台と、この試料設置台の上方に設けられた遠赤外線ランプとを有する乾燥装置において、前記試料設置台と前記遠赤外線ランプの間に前記基板試料と同一材質のフィルタを配置したことを特徴とする乾燥装置。

IPC (4)：

G01N 1/28 ,  F26B 3/30 ,  G01N 23/223 ,  H01L 21/304 361

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• ウエーハ分析器具
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-303302   Applicant：三菱マテリアル株式会社, 三菱マテリアルシリコン株式会社
• 特開平4-157789
  
• 特開平3-165031