薬液処理装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小山有 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998149733
Publication number (International publication number)：1999154641
Application date： May. 29, 1998
Publication date： Jun. 08, 1999
Summary：

【要約】【課題】塗布後にノズルに残る塗布液のボタ落ちをなくす。【解決手段】現像液を塗布する場合には、例えば、循環経路30内を500〜700ml/minの流量で循環させて、スリット状吐出口4aから現像液が流下しない状態から、バルブ33を閉じるか絞ることにより、またはポンプ35により流量を1500〜3000ml/minに上げると、スリット状吐出口4aから現像液がカーテン状になってガラス基板W上の略全面に亘って塗布される。

Claim (excerpt)：

板状被処理物表面に所定幅で塗布液を塗布するノズルを備えた塗布装置において、前記ノズルは塗布液の循環経路の途中に設けられていることを特徴とする薬液処理装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 , B05C 11/10 , G03F 7/16 502 , G03F 7/30 502

FI (5)：

H01L 21/30 564 C , B05C 11/10 , G03F 7/16 502 , G03F 7/30 502 , H01L 21/30 569 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

塗布ノズル、この塗布ノズルを用いた塗布方法及びこの塗布ノズルを組み込んだ塗布装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-094196 Applicant：東京応化工業株式会社
液体吐出装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-319378 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-069348 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社

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