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J-GLOBAL ID：200903091802192615

処理液供給装置及び処理液供給方法

Inventor： 藤本 昭浩 ,  吉原 孝介 ,  榎本 昌弘
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000087342
Publication number (International publication number)：2001269608
Application date： Mar. 27, 2000
Publication date： Oct. 02, 2001
Summary：

【要約】【課題】気泡を効率的に除去する。【解決手段】ウェハにレジスト液を吐出する吐出ノズル67と、レジスト液を収容するレジストタンク62と、吐出ノズル67とタンク62とを結ぶ供給配管63a〜63dと、供給配管63c,63d間に配設されたポンプ66と、ポンプ66の作動を制御するポンプ駆動機構と、一端が配管63bから分岐し、他端がポンプ66に配設された循環配管68と、供給配管63b、63c間に配設され、レジスト液を濾過して気泡を除去するフィルタ65と、このフィルタ65により濾過され気泡を含むレジスト液を排出するドレン配管71と、ドレン配管71に配設され、フィルタ65から排出されるレジスト液の流量を制御するバルブ71aからなる。

Claim (excerpt)：

被処理基板に処理液を吐出する吐出ノズルと、前記処理液を収容する収容容器と、前記吐出ノズルと前記容器とを結ぶ供給配管と、前記供給配管に配設されたポンプと、前記ポンプの作動を制御するポンプ駆動機構と、一端が前記容器と前記ポンプとの間の配管から分岐し、他端が前記ポンプに配設された循環配管と、前記供給配管途中であって前記循環配管の一端と他端の間に配設され、前記処理液を濾過して異物を除去するフィルタと、このフィルタにより濾過され異物を含む処理液を排出するドレン配管と、このドレン配管に配設され、前記フィルタから排出される処理液の流量を制御するバルブとを具備してなることを特徴とする処理液供給装置。

IPC (5)：

B05C 11/10 ,  B01D 19/00 ,  B05D 3/00 ,  G03F 7/16 501 ,  H01L 21/027

FI (6)：

B05C 11/10 ,  B01D 19/00 G ,  B05D 3/00 B ,  G03F 7/16 501 ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 569 A

F-Term (21)：

2H025AA18 ,  2H025EA04 ,  4D011AA08 ,  4D011AD03 ,  4D011AD06 ,  4D075AC74 ,  4D075AC84 ,  4F042AA07 ,  4F042BA12 ,  4F042CA01 ,  4F042CA07 ,  4F042CB02 ,  4F042CB03 ,  4F042CB19 ,  4F042CB20 ,  4F042CB25 ,  4F042EB18 ,  5F046JA02 ,  5F046JA03 ,  5F046LA03 ,  5F046LA04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平3-114565
  
• 塗布装置と塗布方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-067754   Applicant：東京エレクトロン株式会社
• 特開昭62-165919