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J-GLOBAL ID：200903091849441508

研磨用シート

Inventor： 大野 隆央 ,  定延 治朗
Applicant, Patent owner： 帝人株式会社
Agent (1)： 前田 純博
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001066306
Publication number (International publication number)：2002270550
Application date： Mar. 09, 2001
Publication date： Sep. 20, 2002
Summary：

【要約】【課題】 十分な研磨剤保持量を有し、研磨経時により研磨精度が下がらず均一研磨可能な研磨用シートを提供する。【解決手段】 メタフェニレンイソフタルアミド系ポリマーからなり、多数の均一な微細孔を表面及び内部に有し、空隙率が40〜90%で、表面開孔率が10〜70%である多孔膜を単独または積層し研磨用シートとする。

Claim (excerpt)：

メタフェニレンイソフタルアミド系ポリマーからなり、多数の均一な微細孔を表面及び内部に有し、空隙率が40〜90%で、表面開孔率が10〜70%である多孔膜からなることを特徴とする研磨用シート。

IPC (6)：

H01L 21/304 622 ,  B24B 37/00 ,  C08J 5/14 CFG ,  C08J 9/28 CFG ,  C08J 9/28 101 ,  C08L 77:06

FI (6)：

H01L 21/304 622 F ,  B24B 37/00 C ,  C08J 5/14 CFG ,  C08J 9/28 CFG ,  C08J 9/28 101 ,  C08L 77:06

F-Term (15)：

3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CB01 ,  3C058DA17 ,  4F071AA55 ,  4F071AG28 ,  4F071AH19 ,  4F071DA20 ,  4F074AA71 ,  4F074AH03 ,  4F074CB43 ,  4F074CB45 ,  4F074CC32Y ,  4F074DA02 ,  4F074DA56

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 金属表面の研磨方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-027131   Applicant：帝人株式会社
• 研磨用シート
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-153536   Applicant：帝人株式会社