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J-GLOBAL ID：200903091977707340

レジスト除去方法

Inventor： 林 俊司
Applicant, Patent owner： 宮崎沖電気株式会社 ,  沖電気工業株式会社
Agent (1)： 鈴木 敏明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992198535
Publication number (International publication number)：1994045292
Application date： Jul. 24, 1992
Publication date： Feb. 18, 1994
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、半導体装置の製造におけるレジストの除去方法、中でもアッシングの際の使用ガスに関するもので、特に高ドーズレジストを除去する場合、アッシングのときの反応熱により発生するバーストを防止し、レジストの残渣の発生、チャンバの汚染を除去することを目的とする。【構成】 本発明は前記目的のため、アッシングの際使用するガスを、O2 ガスに不活性ガス(ArやHeガス)を50%以上添加するようにしたものである。その結果、前記反応熱を下げることができ、図1に示すようにバースト発生が起こらない範囲でアッシングできる。

Claim (excerpt)：

半導体装置の製造工程において、半導体基板上に形成したレジストを除去する際、O2 ガスに不活性ガスを添加してアッシングすることを特徴とするレジスト除去方法。

IPC (2)：

H01L 21/302 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 半導体装置の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-171784   Applicant：シチズン時計株式会社
• 特開平4-065827
  
• レジストのアッシング方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-074115   Applicant：住友金属工業株式会社
• 特開昭54-049072