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J-GLOBAL ID：200903092003417295

被処理物保持体およびそれを搭載したウェハプローバ

Inventor： 板倉 克裕 ,  夏原 益宏 ,  仲田 博彦
Applicant, Patent owner： 住友電気工業株式会社
Agent (3)： 中野 稔 ,  山口 幹雄 ,  二島 英明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005125983
Publication number (International publication number)：2006303339
Application date： Apr. 25, 2005
Publication date： Nov. 02, 2006
Summary：

【課題】高剛性であり、安価で、簡単な構造の被処理物保持体を提供する。また、該被処理物保持体を搭載したウェハプローバ装置を提供する。【解決手段】被処理物を真空吸着により載置するための載置面2を備えた被処理物保持体1であって、前記保持体1の載置面2とその反対側の面3とを連通する貫通孔4を備え、更に前記被処理物保持体1の載置面2の反対側面3に、凹部5が形成され、該凹部5を被覆する被覆部材6を有する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

被処理物を真空吸着により載置するための載置面を備えた被処理物保持体であって、前記保持体の載置面とその反対側の面とを連通する貫通孔を備え、更に前記被処理物保持体の載置面の反対側面に、凹部が形成され、該凹部を被覆する被覆部材を有することを特徴とする被処理物保持体。

IPC (2)：

H01L 21/683 ,  H01L 21/66

FI (4)：

H01L21/68 P ,  H01L21/66 B ,  H01L21/66 D ,  H01L21/66 H

F-Term (15)：

4M106AA01 ,  4M106AA02 ,  4M106BA01 ,  4M106CA01 ,  4M106CA27 ,  4M106CA56 ,  4M106DJ02 ,  5F031CA02 ,  5F031HA02 ,  5F031HA14 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031MA33 ,  5F031PA18 ,  5F031PA30

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• ウエハプローバ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-201789   Applicant：イビデン株式会社