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J-GLOBAL ID:200903092156956578

沈降シリカ及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998035287
Publication number (International publication number):1999228126
Application date: Feb. 18, 1998
Publication date: Aug. 24, 1999
Summary:
【要約】【課題】 エラストマーや樹脂に充填したとき、バランスのとれた補強効果を発現する沈降シリカを提供する。【解決手段】 セチルトリメチルアンモニウムブロマイド(CTAB)の吸着により測定した比表面積が180〜270m2/gであって、水銀圧入法により測定した細孔分布に関して、細孔半径400オングストローム以下の細孔の容積に占める50オングストローム以上、70オングストローム以下の細孔半径を有する細孔の容積の割合が10〜30%、70オングストロームを越え、100オングストローム以下の細孔半径を有する細孔の容積の割合が20〜40%、100オングストロームを越え、150オングストローム以下の細孔半径を有する細孔の容積の割合が10〜30%の範囲にある沈降シリカである。
Claim (excerpt):
セチルトリメチルアンモニウムブロマイド(CTAB)の吸着により測定した比表面積(S(CTAB))が180〜270m2/gであって、水銀圧入法により測定した細孔分布に関して、細孔半径400オングストローム以下の細孔の容積に占める50オングストローム以上、70オングストローム以下の細孔半径を有する細孔の容積の割合が10〜30%、70オングストロームを越え、100オングストローム以下の細孔半径を有する細孔の容積の割合が20〜40%、および100オングストロームを越え、150オングストローム以下の細孔半径を有する細孔の容積の割合が10〜30%の範囲にあることを特徴とする沈降シリカ。
IPC (2):
C01B 33/143 ,  C08K 3/36
FI (2):
C01B 33/143 ,  C08K 3/36
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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