Pat
J-GLOBAL ID:200903092156956578
沈降シリカ及びその製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998035287
Publication number (International publication number):1999228126
Application date: Feb. 18, 1998
Publication date: Aug. 24, 1999
Summary:
【要約】【課題】 エラストマーや樹脂に充填したとき、バランスのとれた補強効果を発現する沈降シリカを提供する。【解決手段】 セチルトリメチルアンモニウムブロマイド(CTAB)の吸着により測定した比表面積が180〜270m2/gであって、水銀圧入法により測定した細孔分布に関して、細孔半径400オングストローム以下の細孔の容積に占める50オングストローム以上、70オングストローム以下の細孔半径を有する細孔の容積の割合が10〜30%、70オングストロームを越え、100オングストローム以下の細孔半径を有する細孔の容積の割合が20〜40%、100オングストロームを越え、150オングストローム以下の細孔半径を有する細孔の容積の割合が10〜30%の範囲にある沈降シリカである。
Claim (excerpt):
セチルトリメチルアンモニウムブロマイド(CTAB)の吸着により測定した比表面積(S(CTAB))が180〜270m2/gであって、水銀圧入法により測定した細孔分布に関して、細孔半径400オングストローム以下の細孔の容積に占める50オングストローム以上、70オングストローム以下の細孔半径を有する細孔の容積の割合が10〜30%、70オングストロームを越え、100オングストローム以下の細孔半径を有する細孔の容積の割合が20〜40%、および100オングストロームを越え、150オングストローム以下の細孔半径を有する細孔の容積の割合が10〜30%の範囲にあることを特徴とする沈降シリカ。
IPC (2):
FI (2):
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
-
シリコーンゴム補強充填剤用の含水珪酸
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-328054
Applicant:日本シリカ工業株式会社
-
特公昭51-025235
-
水和珪酸とその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-256172
Applicant:日本化学工業株式会社, 日本製紙株式会社
-
シリコーンゴム用含水珪酸
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-194380
Applicant:株式会社トクヤマ
Show all
Return to Previous Page