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J-GLOBAL ID:200903092184095693

搬送装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 中本 菊彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993282113
Publication number (International publication number):1995112802
Application date: Oct. 18, 1993
Publication date: May. 02, 1995
Summary:
【要約】【目的】 被処理体を除電しつつ、レジスト塗布現像装置と露光装置との間で相互に被処理体を搬送することができる搬送装置を提供する。【構成】 レジスト塗布現像装置61とEB露光装置62との間で被処理体であるウエハWを搬送する過程でウエハWと接触することになる受渡用搬送アーム4、ウエハ受渡しステージ2のウエハ支持ピン8及びバッファ用ウエハカセット6の取出用ピン17を接地導線16によって接地しておくことで、ウエハWに蓄積された電荷を導出させる。ウエハ支持ピン8及びピン17の接地導線16の途中に、10MΩ程度の抵抗値を有する抵抗器7を設けることで、ウエハWとウエハ支持ピン8、バッファ用ウエハカセット6とカセット取出用ピン17がそれぞれ接触した際に過大な電流が流れるのを防止し、スパークの発生を防ぐ。
Claim (excerpt):
被処理体にレジストを塗布しかつ露光処理された被処理体を現像処理するレジスト塗布現像装置と、レジストが塗布された被処理体を露光処理する露光装置との間で被処理体を相互に搬送するための搬送装置において、上記露光装置の被処理体搬出入部近傍に設けられた第1の受渡用載置部と、上記レジスト塗布現像装置の被処理体搬出入部近傍に設けられた第2の受渡用載置部と、第1の受渡用載置部を介して上記露光装置内の被処理体搬送機構と相互に被処理体の受け渡しを行うと共に第2の受渡用載置部を介して上記レジスト塗布現像装置内の被処理体搬送機構と相互に被処理体の受け渡しを行う受渡用搬送アームとを具備し、上記第1の受渡用載置部に、被処理体に蓄積した電荷を除去するための除電手段が設けられていることを特徴とする搬送装置。
IPC (5):
B65G 1/00 543 ,  B65G 49/07 ,  B65H 3/46 320 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/68
FI (3):
H01L 21/30 502 J ,  H01L 21/30 541 L ,  H01L 21/30 569 D
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 特開昭62-287638
  • 特開昭63-133644
  • 基板搬送装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-054315   Applicant:東芝機械株式会社

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