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J-GLOBAL ID：200903092288744723

リソグラフィー用下地材及びそれを用いた多層レジスト材料

Inventor： 佐藤 充 ,  大森 克実 ,  石川 清 ,  井口 悦子 ,  中山 寿昌
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995040523
Publication number (International publication number)：1996087115
Application date： Feb. 28, 1995
Publication date： Apr. 02, 1996
Summary：

【要約】【構成】 (a)少なくとも2個の架橋形成性官能基をもつトリアジン化合物、(b)高吸光性物質、及び場合により(c)アルカリ不溶性アクリル系樹脂を含有して成るリソグラフィー用下地材、並びに、基板上に、この下地材から成る層及びレジスト層を順次設けた多層レジスト材料である。好適には、(a)成分はヒドロキシル基及び/又はアルコキシル基をもつトリアジン化合物、特にメチロール基及び/又はアルコキシメチル基で置換されたメラミン又はグアナミン、(b)成分はベンゾフェノン系、ジフェニルスルホン系、ジフェニルスルホキシド系のもの、(c)成分はグリシジル基をもつアクリル系樹脂である。【効果】 基板からの反射光を十分に抑制でき、インターミキシング層の発生がなく、ノッチングが起らず、マスクパターンに対する寸法精度に優れるとともに、断面が矩形で高解像度及び高アスペクト比のレジストパターンを与える。

Claim (excerpt)：

(a)少なくとも2個の架橋形成性官能基をもつトリアジン化合物及び(b)高吸光性物質を含有することを特徴とするリソグラフィー用下地材。

IPC (5)：

G03F 7/11 502 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/26 511 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 573 ,  H01L 21/30 574

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• ハレーション止め組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-328816   Applicant：シツプリイ・カンパニイ・インコーポレイテツド
• リソグラフィー用下地材及びそれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-212443   Applicant：東京応化工業株式会社