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J-GLOBAL ID:200903092492492350

ガス分析装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 藤本 英夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998181645
Publication number (International publication number):2000002656
Application date: Jun. 12, 1998
Publication date: Jan. 07, 2000
Summary:
【要約】【課題】ガス測定用セル,ガス導入管のヒータを個別に設けることなく、ガス導入管のサンプルガスの温度を一定に保持し、スペース的な制約をうけることなく、安価にする。【解決手段】 ガス測定用セル1の周面に装着されたヒータ7と、ヒータ7の温度を制御する温調器14と、ヒータ7により加熱され,一端がセル1のガス導入孔10に接続され,他端がサンプルガスラインに接続されたガス導入管9と、セル1,ヒータ7およびガス導入管9を覆った断熱材15とを備える。
Claim (excerpt):
ガス測定用セルの周面に装着されたヒータと、当該ヒータの温度を制御する温調器と、前記ヒータにより加熱され,一端が前記セルのガス導入孔に接続され,他端がサンプルガスラインに接続されたガス導入管と、前記セル,前記ヒータおよび前記ガス導入管を覆った断熱材とを備えたことを特徴とするガス分析装置。
F-Term (8):
2G059AA01 ,  2G059BB01 ,  2G059DD12 ,  2G059DD16 ,  2G059EE01 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ01 ,  2G059KK09
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 特開昭64-012248
  • ダスト濃度測定装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-065739   Applicant:日本碍子株式会社
  • 燃焼排ガス中の未燃炭化水素分析装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-262837   Applicant:関西電力株式会社, バブコツク日立株式会社, 株式会社堀場製作所

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