金属パターン形成用有機金属化合物及びこれを用いた金属パターン形成方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：八田幹雄 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002373621
Publication number (International publication number)：2003286579
Application date： Dec. 25, 2002
Publication date： Oct. 10, 2003
Summary：

【要約】【課題】露光によって電気伝導性金属パターンを容易に形成することが可能な有機金属化合物を提供すること。【解決手段】 MmLnL'oXp(式中、MはAg、Au、Co、Cu、Pd、Ni、Pt、Zn及びCdからなる群より選ばれる1種の遷移金属、LおよびL’は特定構造の有機配位子、Xは陰イオン性配位子で、mは1〜10の整数、nは1〜10の整数、oは0〜10の整数、pは0〜10の整数である。)で示される金属パターン形成用有機金属化合物である。本発明の有機金属化合物を構成する有機配位子は、光に敏感であって露光の時に中心金属から容易に分離されて分解される特性があるため、金属パターン形成時に別途の感光性樹脂塗布工程及びエッチング工程を必要とせず、パターンニング時間の短縮ができる。

Claim (excerpt)：

下記化学式(1)で表わされる金属パターン形成用有機金属化合物。【化1】(式中、MはAg、Au、Co、Cu、Pd、Ni、Pt、Zn及びCdからなる群より選ばれる1種の遷移金属、Lは下記化学式(2)または(3)で表わされる有機配位子、L’はアミン、チオール、セレノール及びホスフィンからなる群より選ばれた有機配位子、Xはハロゲノ(halogeno)、ヒドロキソ(hydroxo: OH-)、シアノ(cyano: CN-)、ニトロシル(nitrosyl: NO-)、ニトリト(nitrito: NO2-)、ニトラト(nitrato: NO3-)、アジド(azido: N3-)、チオシアナト(thiocyanato)、イソチオシアナト(isothiocyanato)、テトラアルキルボラト(tetraalkoxyborato)、テトラハロボラト(tetrahaloborato)、ヘキサフルオロポスファト(hexafluorophosphato: PF6-)、トリフラト(triflato: CF3SO3-)、トシラト(Tosylato: Ts-)、スルファト(Sulfato: SO42-)、及びカルボナト(carbonato: CO32-)からなる群より選ばれた陰イオン性配位子をそれぞれ示し、mは1〜10の整数、nは1〜10の整数、oは0〜10の整数、pは0〜10の整数である。)【化2】(式中、R1及びR2はそれぞれ炭素数1〜20の直鎖状、分枝状もしくは環状アルキル基、アルケニル基もしくはアルキニル基、またはアリール基である。)【化3】(式中、R3及びR4はそれぞれ水素原子、または炭素数1〜5の直鎖状または分枝状アルキル基であり、yは2〜10の整数である。)

IPC (6)：

C23C 18/20 , G03F 7/004 531 , G03F 7/20 501 , H01L 21/027 , C07C321/14 , C07F 1/10

FI (6)：

C23C 18/20 A , G03F 7/004 531 , G03F 7/20 501 , C07C321/14 , C07F 1/10 , H01L 21/30 502 D

F-Term (39)：

2H025AA19 , 2H025AB15 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025BB00 , 2H025BH01 , 2H025FA15 , 2H025FA29 , 2H025FA39 , 2H097CA12 , 2H097FA06 , 2H097FA10 , 2H097LA10 , 2H097LA12 , 2H097LA20 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB92 , 4H048AA01 , 4H048AB76 , 4H048VA40 , 4H048VA42 , 4H048VA57 , 4H048VB10 , 4H048VB90 , 4K022AA02 , 4K022AA03 , 4K022BA01 , 4K022BA31 , 4K022BA33 , 4K022CA12 , 4K022CA22 , 4K022CA26 , 4K022DA03 , 4K022DB05 , 4K022EA03 , 5F046AA28

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

特開昭62-263973号公報
米国特許第5,064,685号明細書
米国特許第5,534,312号明細書

Cited by examiner (4)

基板を選択的に金属被覆する方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-105013 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
特開昭58-074656
パターン化された被膜を含む金属を直接堆積させる方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平8-515606 Applicant：サイモンフレイザーユニバーシティー

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

Inorganica Chimica Acta, 19960801, 249(1), p.69-77

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