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J-GLOBAL ID:200903092571153537
近赤外吸収フィルター用組成物及び該組成物による近赤外吸収フィルター
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小林 雅人 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998269676
Publication number (International publication number):2000095950
Application date: Sep. 24, 1998
Publication date: Apr. 04, 2000
Summary:
【要約】【課題】 従来技術の問題点を解決し、可視光の透過率が非常に高いと同時に近赤外の吸収能も高い透明なフィルターを製造することのできる近赤外吸収フィルター用組成物及び該組成物による近赤外吸収フィルターを提供する。【解決手段】 本発明の近赤外吸収フィルター用組成物は、透明性ポリマーに対しトリフルオロ酢酸銅を添加してなることを特徴とし、又、本発明の近赤外吸収フィルターは、この近赤外吸収フィルター用組成物よりなることを特徴とする。
Claim (excerpt):
透明性ポリマーに対しトリフルオロ酢酸銅を添加してなることを特徴とする近赤外吸収フィルター用組成物。
IPC (5):
C08L101/00
, C08K 5/098
, C09K 3/00 105
, G02B 5/22
, H01J 11/02
FI (5):
C08L101/00
, C08K 5/098
, C09K 3/00 105
, G02B 5/22
, H01J 11/02 Z
F-Term (18):
2H048CA04
, 2H048CA09
, 2H048CA12
, 2H048CA19
, 2H048CA27
, 4J002BE021
, 4J002BE061
, 4J002BG041
, 4J002BG051
, 4J002BG071
, 4J002EG046
, 4J002GP00
, 5C040GH01
, 5C040GH10
, 5C040KA14
, 5C040KB14
, 5C040MA03
, 5C040MA08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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高分子合成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-024266
Applicant:大阪瓦斯株式会社
-
有機光学材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-202849
Applicant:株式会社東京製品開発研究所
-
近赤外吸収樹脂組成物及び材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-270163
Applicant:住友化学工業株式会社
-
光学フィルターの製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-347449
Applicant:呉羽化学工業株式会社
-
特開昭56-129243
-
樹脂用添加剤、樹脂組成物、および成形体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-265258
Applicant:旭硝子株式会社
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