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J-GLOBAL ID：200903092621390055

計算機を用いたパターン評価方法およびパターン生成方法

Inventor：
稲浪 良市

About 稲浪 良市

, 
中杉 哲郎

About 中杉 哲郎


Applicant, Patent owner：
株式会社東芝

About 株式会社東芝


Agent (1)： 三好 秀和 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998171757
Publication number (International publication number)：2000012426
Application date： Jun. 18, 1998
Publication date： Jan. 14, 2000
Summary：
【要約】【課題】 電子ビームのつなぎを考慮した高精度のパターン評価を可能にすること。【解決手段】 レジストと基板で構成される試料をメッシュに分割してモンテカルロシミュレーションを施すことにより蓄積エネルギーのテーブル化を行う。露光パターンから所望のCPパターンを抜き出し、このCPパターンに対する潜像分布計算を前記テーブル化データに基いて行ってから、2つのCPパターンをずらして潜像分布を重ね合わせた後、これを現像計算して計算によるレジストの現像パターンを得、このパターンの寸法を測定することによりCPパターンのずれに対する露光マージンの評価を行う。
Claim (excerpt)：
レジストおよび基板を含む試料をメッシュに分割してモンテカルロシミュレーションを施して各メッシュ毎の電子ビームによる蓄積エネルギーを求めてテーブル化する過程と、所望の露光パターンを複数の小領域に分割する過程と、前記所望の露光パターンの電子ビームの照射結果として、前記分割された各小領域に対する電子ビームによる蓄積エネルギー計算を前記テーブル化したデータを用いて行なう過程と、 少なくとも2つ以上の小領域の位置を変化させて加算し、この加算パターンの蓄積エネルギーを計算する過程と、前記計算されたパターンの蓄積エネルギー分布から現像計算を行なう過程と、この現像計算結果のパターンの任意の部分を指定して寸法測定を行なう過程とを備えることを特徴とする計算機を用いたパターン評価方法。
IPC (4)：
H01L 21/027 ,  G01B 15/00 ,  G03F 7/20 504 ,  H01L 21/66
FI (4)：
H01L 21/30 541 M ,  G01B 15/00 B ,  G03F 7/20 504 ,  H01L 21/66 J
F-Term (28)：
2F067AA21 ,  2F067AA54 ,  2F067BB04 ,  2F067CC16 ,  2F067CC17 ,  2F067HH06 ,  2F067KK06 ,  2F067KK07 ,  2F067MM02 ,  2F067RR04 ,  2H097BB01 ,  2H097CA16 ,  2H097LA10 ,  4M106AA20 ,  4M106AD11 ,  4M106BA20 ,  4M106CA39 ,  5F056AA06 ,  5F056AA31 ,  5F056CA02 ,  5F056CA05 ,  5F056CA07 ,  5F056CA30 ,  5F056CC07 ,  5F056CC12 ,  5F056CC13 ,  5F056CD11 ,  5F056CD13
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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