Pat
J-GLOBAL ID:200903092696893028
反射防止膜を製造する方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
柳川 泰男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998247819
Publication number (International publication number):2000066006
Application date: Aug. 18, 1998
Publication date: Mar. 03, 2000
Summary:
【要約】【課題】 簡単な方法で低屈折率層の強度が高い反射防止膜を製造する。【解決手段】 透明支持体の上にモノマーを含む低屈折率層形成材料層を設ける工程、該低屈折率層形成材料層の上に含フッ素化合物を含むオーバーコート層を形成する工程、そして該低屈折率層形成材料層のモノマーを重合させる工程をこの順序で実施することにより、透明支持体、モノマーの重合により形成されたポリマーを含む低屈折率層および含フッ素化合物を含むオーバーコート層を有する反射防止膜を製造する。
Claim (excerpt):
透明支持体の上にモノマーを含む低屈折率層形成材料層を設ける工程、該低屈折率層形成材料層の上に含フッ素化合物を含むオーバーコート層を形成する工程、そして該低屈折率層形成材料層のモノマーを重合させる工程をこの順序で実施することにより、透明支持体、モノマーの重合により形成されたポリマーを含む低屈折率層および含フッ素化合物を含むオーバーコート層を有する反射防止膜を製造する方法。
IPC (3):
G02B 1/11
, B32B 7/02 103
, G02B 1/10
FI (3):
G02B 1/10 A
, B32B 7/02 103
, G02B 1/10 Z
F-Term (53):
2K009AA03
, 2K009AA15
, 2K009BB28
, 2K009CC22
, 2K009DD02
, 4F100AA20B
, 4F100AA21B
, 4F100AA21D
, 4F100AA21E
, 4F100AJ06A
, 4F100AK01B
, 4F100AK17C
, 4F100AK25A
, 4F100AK25B
, 4F100AK25D
, 4F100AK25E
, 4F100AK51A
, 4F100AL05A
, 4F100AL05D
, 4F100AL05E
, 4F100AR00A
, 4F100AR00D
, 4F100AR00E
, 4F100BA03
, 4F100BA04
, 4F100BA05
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10C
, 4F100BA10D
, 4F100BA10E
, 4F100BA26
, 4F100DE01B
, 4F100DJ00B
, 4F100EG001
, 4F100EH461
, 4F100EH462
, 4F100EJ081
, 4F100EJ532
, 4F100EJ541
, 4F100EJ542
, 4F100EJ612
, 4F100EJ651
, 4F100EJ862
, 4F100GB41
, 4F100JL08A
, 4F100JL08D
, 4F100JL08E
, 4F100JN01A
, 4F100JN06
, 4F100JN18B
, 4F100JN18D
, 4F100JN18E
Patent cited by the Patent: