Pat
J-GLOBAL ID:200903092696893028

反射防止膜を製造する方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 柳川 泰男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998247819
Publication number (International publication number):2000066006
Application date: Aug. 18, 1998
Publication date: Mar. 03, 2000
Summary:
【要約】【課題】 簡単な方法で低屈折率層の強度が高い反射防止膜を製造する。【解決手段】 透明支持体の上にモノマーを含む低屈折率層形成材料層を設ける工程、該低屈折率層形成材料層の上に含フッ素化合物を含むオーバーコート層を形成する工程、そして該低屈折率層形成材料層のモノマーを重合させる工程をこの順序で実施することにより、透明支持体、モノマーの重合により形成されたポリマーを含む低屈折率層および含フッ素化合物を含むオーバーコート層を有する反射防止膜を製造する。
Claim (excerpt):
透明支持体の上にモノマーを含む低屈折率層形成材料層を設ける工程、該低屈折率層形成材料層の上に含フッ素化合物を含むオーバーコート層を形成する工程、そして該低屈折率層形成材料層のモノマーを重合させる工程をこの順序で実施することにより、透明支持体、モノマーの重合により形成されたポリマーを含む低屈折率層および含フッ素化合物を含むオーバーコート層を有する反射防止膜を製造する方法。
IPC (3):
G02B 1/11 ,  B32B 7/02 103 ,  G02B 1/10
FI (3):
G02B 1/10 A ,  B32B 7/02 103 ,  G02B 1/10 Z
F-Term (53):
2K009AA03 ,  2K009AA15 ,  2K009BB28 ,  2K009CC22 ,  2K009DD02 ,  4F100AA20B ,  4F100AA21B ,  4F100AA21D ,  4F100AA21E ,  4F100AJ06A ,  4F100AK01B ,  4F100AK17C ,  4F100AK25A ,  4F100AK25B ,  4F100AK25D ,  4F100AK25E ,  4F100AK51A ,  4F100AL05A ,  4F100AL05D ,  4F100AL05E ,  4F100AR00A ,  4F100AR00D ,  4F100AR00E ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100BA10D ,  4F100BA10E ,  4F100BA26 ,  4F100DE01B ,  4F100DJ00B ,  4F100EG001 ,  4F100EH461 ,  4F100EH462 ,  4F100EJ081 ,  4F100EJ532 ,  4F100EJ541 ,  4F100EJ542 ,  4F100EJ612 ,  4F100EJ651 ,  4F100EJ862 ,  4F100GB41 ,  4F100JL08A ,  4F100JL08D ,  4F100JL08E ,  4F100JN01A ,  4F100JN06 ,  4F100JN18B ,  4F100JN18D ,  4F100JN18E
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page