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J-GLOBAL ID：200903092698169912

光学部材検査方法

Inventor：
中西 太一

About 中西 太一


Applicant, Patent owner：
ペンタックス株式会社

About ペンタックス株式会社


Agent (1)： 松岡 修平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001331262
Publication number (International publication number)：2003130756
Application date： Oct. 29, 2001
Publication date： May. 08, 2003
Summary：
【要約】【課題】 レンズ等の光学部材の品質を検査するための画像検査装置における光学部材検査方法において、撮影した画像に周期的な濃淡模様が現れるような被検物に対しても不良要因の評価をより厳密に行うことが可能な光学部材検査方法を提供することである。【解決手段】 光学部材検査方法は、画像の濃淡模様の濃淡変化の方向に平行に画像を複数枚に分割し、分割された画像のそれぞれについて濃淡模様の濃淡変化に水平な方向の平均値を取って1次元のデータを生成し、生成された1次元のデータをスペクトル分布に変換し、1次元スペクトル分布から所定周波数以上の周波数帯に発生する卓越成分を除去たうえで逆変換し、逆変換の結果復号された1次元のデータを用いて被検物の品質を評価する。
Claim (excerpt)：
光学部材の品質を検査するための画像検査装置における光学部材検査方法であって、特に撮影した画像に周期的な濃淡模様が現れる被検物の品質を検査する方法であり、該光学部材検査方法が、前記周期的な濃淡模様が現れるような撮影画像を生成する、画像生成ステップと、前記画像の濃淡模様の濃淡変化の方向に平行に前記画像を複数枚に分割する、分割ステップと、前記分割ステップにて分割された画像のそれぞれについて、濃淡模様の濃淡変化に垂直な方向の平均値を取って1次元のデータを生成する、1次元化ステップと、前記1次元化ステップにて生成された1次元のデータを1次元スペクトル分布に変換する、スペクトル分布変換ステップと、前記1次元スペクトル分布から、所定周波数以上の周波数帯に発生する卓越成分を除去するフィルタリングステップと、前記卓越成分が除去された前記1次元スペクトル分布から1次元のデータを復号する、逆変換ステップと、前記逆変換ステップにて復号された1次元のデータを用いて、所定の評価基準に基づいて前記被検物の品質を評価する、評価ステップと、を有することを特徴とする、光学部材検査方法。
IPC (5)：
G01M 11/00 ,  G01N 21/958 ,  G06T 1/00 300 ,  G06T 5/20 ,  G06T 7/60 150
FI (5)：
G01M 11/00 L ,  G01N 21/958 ,  G06T 1/00 300 ,  G06T 5/20 C ,  G06T 7/60 150 J
F-Term (35)：
2G051AA90 ,  2G051AB01 ,  2G051AB02 ,  2G051BB02 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CB05 ,  2G051EA12 ,  2G051ED03 ,  2G051ED30 ,  2G086FF05 ,  5B057AA04 ,  5B057BA19 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CB11 ,  5B057CE06 ,  5B057CE12 ,  5B057DA03 ,  5B057DC14 ,  5B057DC22 ,  5L096AA06 ,  5L096BA03 ,  5L096CA14 ,  5L096DA02 ,  5L096EA06 ,  5L096EA43 ,  5L096FA14 ,  5L096FA23 ,  5L096FA32 ,  5L096FA59 ,  5L096GA08 ,  5L096GA55
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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