標準ガス希釈装置、標準ガス発生装置及び標準ガス発生用液体試料容器

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：四宮通
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995348740
Publication number (International publication number)：1997170970
Application date： Dec. 19, 1995
Publication date： Jun. 30, 1997
Summary：

【要約】【課題】希釈部の段数が少なくても高精度の濃度で低濃度標準ガスを得る。【解決手段】流量コントローラ4の流入口に流入されその流出口から流出した標準ガスは、主流路24に供給される。主流路24から分岐され流量コントローラ4に近い方から1番目の分岐路26及び3番目の分岐路28から希釈用のガスが主流路24に給気される。2番目の分岐路27から主流路24のガスの一部が排気される。これらの給気及び排気の流量制御は、分岐路26,27,28の途中にそれぞれ設置された流量コントローラ29,30,31により行われる。

Claim (excerpt)：

主流入口と主流出口とを有し、前記主流入口に流入された標準ガスを低濃度標準ガスに希釈して前記主流出口から流出させる標準ガス希釈装置において、流入口が前記主流入口に接続された第1の流量コントローラと、一端が前記第1の流量コントローラの流出口に接続されるとともに他端が前記主流出口に接続された主流路と、前記主流路から分岐された1つ以上の分岐路と、を備え、前記1つ以上の分岐路のうちの、前記第1の流量コントローラに近い方から奇数番目の分岐路は、前記主流路に希釈用のガスを給気させる給気路であって、途中に流量コントローラが設置された給気路であり、前記1つ以上の分岐路のうちの、前記第1の流量コントローラに近い方から偶数番目の分岐路は、前記主流路からガスを排気させる排気路であって、途中に流量コントローラが設置された排気路である、ことを特徴とする標準ガス希釈装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開平4-081650
ガス希釈システム並びにガス希釈方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-043793 Applicant：レール・リキード・ソシエテ・アノニム・プール・レテユード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジヨルジユ・クロード
標準ガス発生器
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-033825 Applicant：株式会社日立製作所, 日立東京エレクトロニクス株式会社

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