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J-GLOBAL ID：200903092872582468

レーザ干渉干渉計システムを含む露光装置

Inventor：
高井 亮

About 高井 亮

, 
岩本 和徳

About 岩本 和徳


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 大塚 康徳 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002028332
Publication number (International publication number)：2002319541
Application date： Feb. 05, 2002
Publication date： Oct. 31, 2002
Summary：
【要約】【課題】 ステージ装置の位置や姿勢を高精度に計測制御する露光装置を提供する。【解決手段】 原版に形成されているパターンを基板に投影するための投影光学系34と、基板または原版を保持し、投影光学系34に対して移動可能なステージ27,31,40と、その投影光学系34を支持する鏡筒支持体35とを備え、Yステージ31上に配置されXY平面に対して実質平行な反射面を持つZ計測用ミラー30とYステージ31上に配置したZ干渉計25とを用いた干渉計システムにより、トップステージ27のZ位置及び変位をこれと振動的に独立である鏡筒支持体35を基準にそれぞれ計測を行う。
Claim (excerpt)：
原版に形成されているパターンを基板に投影するための投影光学系と、該基板及び原版の少なくともいずれかの物体を保持して該投影光学系に対して移動可能なステージと、該投影光学系を支持する鏡筒支持体とを備えた露光装置において、前記ステージに配置されXY平面に対して実質平行な反射面を持つZ計測用ミラーを用い、該鏡筒支持体に対する該ステージのZ位置及び変位を測定する干渉計を備えた干渉計システムを含むことを特徴とする露光装置。
IPC (4)：
H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G03F 7/23 ,  G03F 9/02
FI (5)：
G01B 11/00 G ,  G03F 7/23 H ,  G03F 9/02 H ,  H01L 21/30 503 B ,  H01L 21/30 502 G
F-Term (16)：
2F065AA04 ,  2F065CC00 ,  2F065FF55 ,  2F065GG04 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ07 ,  2F065LL12 ,  2F065UU07 ,  5F046BA04 ,  5F046CB02 ,  5F046CB10 ,  5F046CB26 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC03 ,  5F046CC16
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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