Pat
J-GLOBAL ID:200903068333922419
インサイチュミラー特徴付け
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
山本 秀策 (外2名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2001586412
Publication number (International publication number):2003534541
Application date: May. 09, 2001
Publication date: Nov. 18, 2003
Summary:
【要約】フォトリソグラフィミラー(260、270)等の局所的な表面の特徴をインサイチュで干渉によって測定され、距離測定の精度および角測定の精度を高める補正信号を提供する干渉計装置および方法が提供される。1つ以上の方向の1つまたは複数の基準線に沿った表面特徴は、局所的な傾きを決定するために動作時に表面で反射したビームの角変化を測定し、その後、最終的に表面トポロジーを得るためにその傾きを積分することによって得られ得る。ミラー(260、270)は、フォトリソグラフィステージ(16)上、またはフォトリソグラフィステージ外の基準フレーム上のいずれかに取り付けられ得る。
Claim (excerpt):
基準フレームを規定する手段と、 平行移動ステージと、 該平行移動ステージを該基準フレームに対して少なくとも2つの直交方向のうち少なくとも1つの方向に選択的に平行移動する電気機械的構成と、 該基準フレームに対して所定の様態で取り付けられた少なくとも1つの薄く細長いミラーであって、反射面と、該少なくとも1つの薄く細長いミラーの長手方向の寸法に沿って延びる公称基準線とを有する、少なくとも1つの薄く細長いミラーと、 該少なくとも1つの薄く細長いミラーに対して所定の様態で取り付けられた少なくとも1つの干渉計サブシステムであって、該少なくとも1つの薄く細長いミラーと協働して、少なくとも1つの方位における該平行移動ステージの変位を測定するように適応されており、該基準線に沿って、かつ、該基準線に直交する該少なくとも1つの薄く細長いミラーの局所的な傾き、および、該反射面に垂直な方向の局所的な変位を測定するように適応されている、少なくとも1つの干渉計サブシステムと、 動作モード時に互いに相対移動する該平行移動ステージと、該少なくとも1つの薄く細長いミラーと、該少なくとも1つの干渉計サブシステムとを選択的に平行移動する該動作モードを有する制御手段であって、該少なくとも1つの干渉計サブシステムは、対応する基準線に沿って該少なくとも1つの薄く細長いミラーを走査し、該電気機械的構成自身から現れる変化に起因する何らかの寄与成分とともに、該反射面の角変化および表面距離を示す情報を含む信号を生成する、制御手段と、 該信号に含まれる該情報を抽出し、該制御手段が該動作モード中に、該少なくとも1つの薄く細長いミラーの局所的な形状を決定する信号解析手段と を備える、干渉計装置。
IPC (5):
G01B 9/02
, G01B 11/00
, G01B 11/26
, G03F 9/00
, H01L 21/027
FI (6):
G01B 9/02
, G01B 11/00 G
, G01B 11/26 G
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 503 A
, H01L 21/30 516 B
F-Term (52):
2F064AA01
, 2F064AA06
, 2F064AA09
, 2F064AA15
, 2F064BB01
, 2F064BB05
, 2F064CC04
, 2F064DD01
, 2F064DD07
, 2F064DD08
, 2F064EE01
, 2F064FF02
, 2F064FF06
, 2F064GG12
, 2F064GG13
, 2F064GG23
, 2F064GG38
, 2F064GG70
, 2F064JJ06
, 2F064JJ15
, 2F065AA06
, 2F065AA35
, 2F065AA39
, 2F065AA51
, 2F065BB11
, 2F065BB25
, 2F065CC00
, 2F065CC21
, 2F065EE00
, 2F065EE05
, 2F065FF51
, 2F065GG05
, 2F065GG13
, 2F065GG23
, 2F065HH04
, 2F065HH13
, 2F065JJ05
, 2F065JJ09
, 2F065LL36
, 2F065LL37
, 2F065LL57
, 2F065MM03
, 2F065NN08
, 2F065QQ13
, 2F065QQ14
, 2F065QQ16
, 2F065QQ17
, 2F065QQ23
, 2F065QQ25
, 5F046CC03
, 5F046CC13
, 5F046CC16
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
-
特開平3-010105
-
特開平3-010105
-
微小変位量の測定方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-008473
Applicant:株式会社リコー
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