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J-GLOBAL ID:200903092893379786

デンプン含有化粧品組成物および洗浄組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山川 政樹 (外5名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1998504787
Publication number (International publication number):2000514435
Application date: Jul. 07, 1997
Publication date: Oct. 31, 2000
Summary:
【要約】C2-C5ヒドロキシアルキルデンプンとC2-C18アシルデンプンとから選択される糊化、橋かけデンプンを含有する水溶液相を含む、皮膚、歯もしくは毛髪の洗浄用もしくは手入れ用組成物、またはスムース面洗浄用組成物について記述するものである。ヒドロキシプロピルジスターチホスフェート、またはジスターチ-C4 C18-アルカノエートもしくはアルケノエートが好ましい。デンプンは、1)安定性向上剤、2)粘度調整剤、3)乳化(助)剤、4)肌ざわり向上剤、および5)整髪特性向上剤として作用する。
Claim (excerpt):
C2-C5ヒドロキシアルキルデンプンとC2-C18アシルデンプンとから選択される糊化、橋かけデンプンを含有する水溶液相を含む、皮膚、歯もしくは毛髪の洗浄用もしくは手入れ用組成物、またはスムース面洗浄用組成物。
IPC (3):
A61K 7/50 ,  A61K 7/075 ,  C11D 3/22
FI (3):
A61K 7/50 ,  A61K 7/075 ,  C11D 3/22
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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