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J-GLOBAL ID：200903092979372997

共焦点顕微鏡及び共焦点顕微鏡等に用いられるリレー光学系

Inventor：
西田浩幸

About 西田浩幸


Applicant, Patent owner：
オリンパス光学工業株式会社

About オリンパス光学工業株式会社


Agent (1)： 韮澤 弘 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998281349
Publication number (International publication number)：2000111801
Application date： Oct. 02, 1998
Publication date： Apr. 21, 2000
Summary：
【要約】【課題】 顕微鏡本体に後付けができ、コンパクトで明るさのロスが少ない共焦点顕微鏡とそのための全長が短くコンパクトで枚数の少ないリレー光学系。【解決手段】 光源14からの光で対物レンズ像位置に配置されている共焦点用基板10を照明し、そこを通過する光を対物レンズ3で標本8上に結像し、標本8で反射された光を再び対物レンズ3を介して共焦点用基板10近傍に結像させ、そこを通過する光をリレー光学系12により標本像として再結像させ、共焦点用基板10を高速に回転させることにより標本8上で高速に光走査して標本の像を得、その像を撮像手段で撮像する共焦点顕微鏡において、照明光学系、共焦点用基板10、リレー光学系12は、顕微鏡本体にユニット4として後付けでき、共焦点用基板10、リレー光学系12、撮像手段が略同一直線状に配置される。
Claim (excerpt)：
照明光学系を通して、光源からの光で対物レンズ像位置若しくはその像位置と共役な位置又はその近傍に配置されている共焦点用基板を照明し、前記共焦点用基板を通過する光を対物レンズで標本上に結像し、標本で反射される光を再び前記対物レンズを介して前記共焦点用基板又はその近傍に結像させ、前記共焦点用基板を通過する光をリレー光学系により標本像として再結像させ、前記共焦点用基板を高速に回転させることにより、標本上で光を高速に走査して標本の像を得、その像を撮像手段で撮像する共焦点顕微鏡において、前記照明光学系、前記共焦点用基板、前記リレー光学系は、顕微鏡本体に後付けできる構成であって、少なくとも前記共焦点用基板、前記リレー光学系、前記撮像手段が略同一直線状に配置されることを特徴とする共焦点顕微鏡。
IPC (2)：
G02B 21/00 ,  G02B 13/00
FI (2)：
G02B 21/00 ,  G02B 13/00
F-Term (32)：
2H052AA08 ,  2H052AB05 ,  2H052AB11 ,  2H052AB21 ,  2H052AC04 ,  2H052AC15 ,  2H052AC27 ,  2H052AC29 ,  2H052AD32 ,  2H052AF14 ,  2H052AF21 ,  2H087KA09 ,  2H087LA27 ,  2H087PA04 ,  2H087PA05 ,  2H087PB04 ,  2H087PB06 ,  2H087PB07 ,  2H087QA02 ,  2H087QA07 ,  2H087QA14 ,  2H087QA21 ,  2H087QA22 ,  2H087QA25 ,  2H087QA26 ,  2H087QA31 ,  2H087QA41 ,  2H087QA42 ,  2H087QA45 ,  2H087QA46 ,  2H087RA42 ,  2H087SA81
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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