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J-GLOBAL ID：200903093023117308

微小構造体の製造方法および装置

Inventor： 高橋 睦也 ,  山田 高幸 ,  山田 秀則
Applicant, Patent owner： 富士ゼロックス株式会社
Agent (1)： 平田 忠雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999043411
Publication number (International publication number)：2000238000
Application date： Feb. 22, 1999
Publication date： Sep. 05, 2000
Summary：

【要約】【課題】 積層方向の解像度、および断面形状精度が高い微小構造体の製造方法および装置を提供する。【解決手段】 パターン基板上に複数のセルを設定し、各セル内に複数のパターン薄膜、および位置合わせマークを形成した薄膜担持体3をx-y-θステージ4上にセットする。アライメント検出部5A,5Bにより位置合わせマークの位置を検出し、この検出結果に基づいてパターン基板上の対象セルCと対向基板6との位置決めを行い、パターン基板と対向基板6とを圧接すると、対象セルC内の複数の薄膜が対向基板6に接合し、パターン基板と対向基板6を離すと、薄膜が対向基板6に転写される。位置決め・転写を繰り返すことにより、対向基板6上に複数の薄膜を積層して接合された微小構造体が形成される。

Claim (excerpt)：

所定の2次元パターンを有する複数の薄膜が形成されたパターン基板と前記パターン基板に対向配置される対向基板との位置決め・圧接・離間を繰り返して前記対向基板上に前記複数の薄膜を積層して接合された微小構造体を製造する微小構造体の製造方法において、前記位置決めは、前記パターン基板と前記対向基板との相対的位置を検出し、前記相対的位置に基づいて行うことを特徴とする微小構造体の製造方法。

IPC (3)：

B81C 1/00 ,  C03C 17/00 ,  C23C 14/54

FI (3)：

B81C 1/00 ,  C03C 17/00 ,  C23C 14/54 C

F-Term (8)：

4G059AA08 ,  4G059AC30 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BB03 ,  4K029BD00 ,  4K029BD04 ,  4K029CA05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 微小構造体、およびその製造方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-114071   Applicant：富士ゼロックス株式会社