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J-GLOBAL ID：200903093212392921

廃水の処理方法および装置

Inventor： 吉崎 耕大 ,  西代 孝志 ,  安部 剛 ,  津田 昌利
Applicant, Patent owner： 株式会社クボタ
Agent (4)： 板垣 孝夫 ,  森本 義弘 ,  笹原 敏司 ,  原田 洋平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006019914
Publication number (International publication number)：2007196175
Application date： Jan. 30, 2006
Publication date： Aug. 09, 2007
Summary：

【課題】オゾンや過酸化水素の供給、ならびに紫外線照射をリアルタイムに制御して処理水中の有機物濃度、有機ヒ素濃度を確実に求められる処理水質とする。【解決手段】反応槽21内において廃水中の有機性物質を酸化分解する酸化分解工程を備え、前記廃水に含まれた特定金属が酸化によって発色することで酸化分解工程の進捗度を判断する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

反応槽内において廃水中の有機性物質を酸化分解する酸化分解工程を備え、前記廃水に含まれた特定金属が酸化によって発色することで酸化分解工程の進捗度を判断することを特徴とする廃水の処理方法。

IPC (3)：

C02F 1/72 ,  C02F 1/78 ,  G01N 21/78

FI (3)：

C02F1/72 101 ,  C02F1/78 ,  G01N21/78 Z

F-Term (20)：

2G054AA02 ,  2G054AB10 ,  2G054BA01 ,  2G054BB02 ,  2G054CE02 ,  2G054EA04 ,  2G054EA06 ,  2G054EB01 ,  2G054FA06 ,  2G054GA02 ,  2G054GB01 ,  4D050AA12 ,  4D050AB59 ,  4D050BB01 ,  4D050BB02 ,  4D050BB09 ,  4D050BC09 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 有機金属化合物含有廃水の処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-095664   Applicant：株式会社クボタ
• 有機ヒ素化合物の処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-341485   Applicant：日揮株式会社