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J-GLOBAL ID：200903093280283456

ルイス塩基性ガスの貯蔵及び放出用システム

Inventor： ダニエル ジョセフ テンペル ,  フィリップ ブルース ヘンダーソン ,  ジェフリー リチャード ブロゾゾウスキー ,  ロナルド マーティン パールスタイン ,  トーマス リチャード ガフネイ
Applicant, Patent owner： エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッド
Agent (5)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  永坂 友康 ,  西山 雅也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005173618
Publication number (International publication number)：2006002939
Application date： Jun. 14, 2005
Publication date： Jan. 05, 2006
Summary：

【課題】 エレクトロニクス工業において利用されるルイス塩基性を有するガス、特に有害特殊ガス、例えばホスフィン及びアルシンのための低圧貯蔵及び放出システムを改善すること。【解決手段】 ルイス塩基性を有するガス間の可逆反応をおこなうことができるルイス酸性を有する反応性化合物を含む液体に、ルイス塩基性を有するガスを貯蔵する。反応性化合物は、非揮発性液体に溶解、懸濁、分散又は混合して反応性種を含む。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

ガスを貯蔵できる媒体を入れた容器を備え、前記媒体に貯蔵されたガスを前記容器から放出できる、ガスの貯蔵及び放出用システムであって、 液状キャリアとルイス酸性を有する反応性化合物を含む液状媒体内で可逆的に反応した状態でルイス塩基性を有するガスを貯蔵することを含むことを特徴とする、ガスの貯蔵及び放出用システム。

IPC (1)：

F17C 11/00

FI (1)：

F17C11/00 B

F-Term (2)：

3E072AA01 ,  3E072EA07

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (10)

• 米国特許第4,744,221号
  
• 米国特許第6,277,342号
  
• 米国特許第4,668,255号
  
• 米国特許第4,713,091号
  
• 米国特許第6,623,659号
  
• 米国特許第6,339,182号
  
• 米国特許出願公開第2003/0125599号
  
• 米国特許第5,518,528号
  
• 米国特許第5,704,965号
  
• 米国特許第5,993,766号
  

Cited by examiner (2)

• アンモニアを貯蔵する方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2002-525417   Applicant：オーストラリアンマグネシウムオペレーションズピーテーワイリミテッド, コモンウェルスサイエンティフィックアンドインダストリアルリサーチオーガニゼーション
• 塩基性ガスの供給方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-252619   Applicant：エアー.プロダクツ.アンド.ケミカルス.インコーポレーテッド