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J-GLOBAL ID：200903093308281527

対イオンよりも水素イオン又は水酸イオンを過剰に含む 水の製造方法及び得られた水

Inventor： 澄田 修生
Applicant, Patent owner： 有限会社コヒーレントテクノロジー
Agent (1)： 宇高 克己
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993334572
Publication number (International publication number)：1995075784
Application date： Dec. 28, 1993
Publication date： Mar. 20, 1995
Summary：

【要約】【目的】 洗浄又は表面処理に好適で、しかも、廃液処理が容易な対イオンより過剰な濃度の水素イオン又は水酸イオンを含む水を効率良く製造する技術、又、対イオンより過剰な濃度の水素イオン又は水酸イオンを含む水を提供することである。【構成】 対イオンよりも水素イオン又は水酸イオンを過剰に含む水を製造する方法であって、アノード極が設けられたアノード室と、カソード極が設けられたカソード室と、前記アノード室及びカソード室に挟まれた中間室とからなる三室構造の電解槽を用い、前記アノード室及び/又はカソード室に水を供給すると共に、前記中間室には電解質が存在する条件下で電解処理を行う対イオンよりも水素イオン又は水酸イオンを過剰に含む水の製造方法。

Claim (excerpt)：

対イオンよりも水素イオン又は水酸イオンを過剰に含む水を製造する方法であって、アノード極が設けられたアノード室と、カソード極が設けられたカソード室と、前記アノード室及びカソード室に挟まれた中間室とからなる三室構造の電解槽を用い、前記アノード室及び/又はカソード室に水を供給すると共に、前記中間室には電解質が存在する条件下で電解処理を行うことを特徴とする対イオンよりも水素イオン又は水酸イオンを過剰に含む水の製造方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開昭64-090088
  
• 中間室を設けた純水電解槽
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-215471   Applicant：澄田修生, 橋本寿正
• 特開昭54-145382
  
• 特開昭61-014232
  
• 純水の電解による水素イオンまたは水酸イオンと酸化還元物質が共存した液およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-346494   Applicant：澄田修生, 橋本寿正