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J-GLOBAL ID:200903093312140130
放射性汚染物の処理方法およびこれに用いる装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小野 信夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999189695
Publication number (International publication number):2001021687
Application date: Jul. 02, 1999
Publication date: Jan. 26, 2001
Summary:
【要約】【課題】 簡単な操作でありながら、短時間で高い放射性物質除去効果が得られ、且つ、分別なしで広範囲の固体廃棄物に適用可能な、放射性汚染物の処理方法およびこれに用いる処理装置を提供すること。【解決手段】 汚染物を、アルカリ性洗浄液中に浸漬し、当該汚染物に付着した放射性腐食生成物を前記アルカリ性洗浄液中に離脱せしめ、この離脱した放射性腐食生成物をアルカリ性洗浄液中から分離することを特徴とする放射性汚染物の処理方法およびこれに用いる装置。
Claim (excerpt):
放射性汚染物を、アルカリ性洗浄液中に浸漬し、当該汚染物に付着した放射性腐食生成物を前記アルカリ性洗浄液中に離脱せしめ、この離脱した放射性腐食生成物をアルカリ性洗浄液中から分離することを特徴とする放射性汚染物の処理方法。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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特開昭61-269097
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特開平2-206800
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放射性金属廃棄物の化学除染方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-058982
Applicant:日立プラント建設株式会社
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特開昭53-021399
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特開昭59-174800
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特表平7-506608
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放射性汚染物のメチレンクロライドによる除染方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-068862
Applicant:森川産業株式会社
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特開平4-175350
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