光プローブ素子および光プローブ素子を用いた記録再生装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：佐々木晴康 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000266528
Publication number (International publication number)：2001141636
Application date： May. 24, 1993
Publication date： May. 25, 2001
Summary：

【要約】【課題】半導体プロセス技術を利用して平面基板1上に光プローブ3を形成することが可能となる。これにより、規格のそろった光プローブ素子20およびこの光プローブ素子20を用いた記録再生装置を効率よく量産することが可能となる。【解決手段】透光性材料からなるほぼ円錐形の突起と、突起の先端部分を除いて突起の円錐面に形成された反射膜2からなる光プローブ3が、透光性材料からなる平面基板1の片面に形成されている光プローブ素子20、およびこの光プローブ素子20を用いた記録再生装置。

Claim (excerpt)：

透光性材料からなるほぼ円錐形の突起と、突起の先端部分を除いて突起の円錐面に形成された反射膜からなる光プローブが、透光性材料からなる平面基板の片面に形成され、且つ、該平面基板の他方の面が平面状であることを特徴とする光プローブ素子。

IPC (7)：

G01N 13/14 , G01N 13/10 , G01N 21/27 , G02B 21/00 , G02B 21/06 , G11B 7/135 , G11B 7/22

FI (7)：

G01N 13/14 B , G01N 13/10 G , G01N 21/27 C , G02B 21/00 , G02B 21/06 , G11B 7/135 A , G11B 7/22

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

表面加工装置および記録装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-244508 Applicant：株式会社日立製作所
微細表面観察装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-256817 Applicant：セイコー電子工業株式会社, 藤平正道
特開平4-115103

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