超純水中の水酸基による加工方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：柳野隆生
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996212517
Publication number (International publication number)：1998058236
Application date： Aug. 12, 1996
Publication date： Mar. 03, 1998
Summary：

【要約】【課題】超純水中のOH- 濃度を増大させれば、このOH- を利用して充分に加工することができるとの認識に基づき、超純水中のOH- を用いて被加工物の加工面に不純物を残さずに清浄な加工が行える全く新しい超純水中の水酸基による加工方法を提供する。【解決手段】微量の不可避不純物を除き超純水のみを用い、これにイオン積を増大させる水酸基増加処理を施し、この水酸基又は水酸基イオンの濃度が増大した超純水中に浸漬した被加工物を、水酸基又は水酸基イオンによる化学的溶出反応若しくは酸化反応によって除去加工若しくは酸化被膜形成加工する。

Claim (excerpt)：

微量の不可避不純物を除き超純水のみを用い、これにイオン積を増大させる水酸基増加処理を施し、この水酸基又は水酸基イオンの濃度が増大した超純水中に浸漬した被加工物を、水酸基又は水酸基イオンによる化学的溶出反応若しくは酸化反応によって除去加工若しくは酸化被膜形成加工することを特徴とする超純水中の水酸基による加工方法。

IPC (5)：

B23H 3/08 , C02F 1/00 , C02F 1/42 , C02F 1/46 , C02F 1/48

FI (5)：

B23H 3/08 , C02F 1/00 Z , C02F 1/42 B , C02F 1/46 Z , C02F 1/48 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

ウェット処理方法及び処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-105991 Applicant：日本電気株式会社

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