Pat

J-GLOBAL ID：200903093833488221

MOCVDによるヘテロ金属酸化物の成長用前駆体

Inventor： リーダム ティモシー ジョン ,  ライト ピーター ジョン ,  クロスビー マイケル ジョン ,  ジョーンズ アンソニー コープランド
Applicant, Patent owner： イギリス国
Agent (1)： 中村 稔 (外9名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000557258
Publication number (International publication number)：2002519354
Application date： Jun. 29, 1999
Publication date： Jul. 02, 2002
Summary：

【要約】次式:Sr[M(OR1)6-xLx]2を有する、MOCVD法によってストロンチウムタンタル及びストロンチウムニオブ酸化物を蒸着させるための金属有機前駆体。(式中、xは1〜6であり;MはTa又はNbであり;R1は直鎖又は分岐鎖アルキル基であり;かつLは次式(I)のアルコキシド基である:【化1】(式中、nは0又は1であり;XはN又はOであり;R2及びR3は同一若しくは異なる直鎖若しくは分岐鎖アルキル基であり;かつR4は直鎖又は分岐鎖で、任意に置換されていてもよいアルキル鎖である。))

Claim (excerpt)：

次式の金属有機前駆体。 Sr[M(OR1)6-xLx]2(式中、xは1〜6であり; MはTa又はNbであり; R1は直鎖又は分岐鎖アルキル基であり;かつ Lは次式のアルコキシド基である:【化1】 (式中、nは0又は1であり、 XはN又はOであり、 R2及びR3は同一若しくは異なる直鎖若しくは分岐鎖アルキル基であり;かつ R4は直鎖又は分岐鎖で、任意に置換されていてもよいアルキル鎖である。))

IPC (6)：

C07C217/06 ,  C07C 31/28 ,  C23C 16/40 ,  C23C 18/12 ,  C07F 7/00 ,  C07F 9/00

FI (6)：

C07C217/06 ,  C07C 31/28 ,  C23C 16/40 ,  C23C 18/12 ,  C07F 7/00 Z ,  C07F 9/00 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• タングステンブロンズ型酸化物の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-352107   Applicant：株式会社高純度化学研究所
• 気相成長用金属ダブルアルコキシド組成物及びその供 給方法及びそれを用いた複合酸化物薄膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-144474   Applicant：株式会社高純度化学研究所

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Journal of Materials Chemistry (1998), 8(11), 2315-2316