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J-GLOBAL ID：200903093901140700

超短パルスレーザーを用いた表面剥離洗浄方法とその装置

Inventor： 細川 陽一郎 ,  松本 由多加 ,  増原 宏 ,  佐藤 節哉
Applicant, Patent owner： エレクトロン機器株式会社 ,  増原 宏 ,  科学技術振興事業団
Agent (1)： 西澤 利夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001235422
Publication number (International publication number)：2003047841
Application date： Aug. 02, 2001
Publication date： Feb. 18, 2003
Summary：

【要約】【課題】 繊細かつ慎重な作業が必要とされる表面剥離洗浄を正確かつ短時間に行なうことを実現する表面剥離洗浄方法を提供する。【解決手段】 洗浄対象物の表面に付着した不要物を剥離洗浄するための表面剥離洗浄方法であって、不要物に超短パルスレーザーを照射して不要物を励起し、洗浄対象物と不要物との間に急激な応力上昇を発生させ、不要物を断片化し、洗浄対象物表面より剥離する。

Claim (excerpt)：

洗浄対象物の表面に付着した不要物を剥離洗浄するための表面剥離洗浄方法であって、超短パルスレーザーの照射により不要物を励起し、洗浄対象物と不要物との間に急激な応力上昇を発生させ、不要物を断片化し、洗浄対象物表面より剥離することを特徴とする表面剥離洗浄方法。

IPC (2)：

B01J 19/12 ,  B08B 7/00

FI (3)：

B01J 19/12 B ,  B01J 19/12 F ,  B08B 7/00

F-Term (8)：

3B116AA46 ,  3B116AB01 ,  3B116BB71 ,  3B116BC01 ,  4G075AA30 ,  4G075AA70 ,  4G075BA05 ,  4G075CA36

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 位相シフトマスクのシフタ残留欠陥修正方法並びに修正装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-173050   Applicant：日本電気株式会社
• 特開昭49-070493
  
• 有機化合物の微粒子の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-292244   Applicant：大日本インキ化学工業株式会社
• 金属表面から酸化物を除去する方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-068783   Applicant：アームコ・インコーポレイテッド