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J-GLOBAL ID：200903093923125640

希ガスの回収方法及び装置

Inventor： 大見 忠弘 ,  石原 良夫
Applicant, Patent owner： 日本酸素株式会社 ,  大見 忠弘
Agent (1)： 木戸 一彦 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997330228
Publication number (International publication number)：1999157814
Application date： Dec. 01, 1997
Publication date： Jun. 15, 1999
Summary：

【要約】【課題】 希ガス使用設備から排出される希ガスを効率よく回収することができ、しかも、希ガス使用設備に対して所定純度の希ガスを安定して供給することができるとともに、希ガスの消費量を低減することができる希ガスの回収方法及び装置を提供する。【解決手段】 減圧下で運転する希ガス使用設備から排出される排ガス中の希ガスを回収するにあたり、前記排ガスの回収系への導入と排気系への排出とを減圧状態で切換えるとともに、この切換え操作を、排ガス中に含まれる不純物成分の濃度や希ガス使用設備の運転状態に応じて行う。

Claim (excerpt)：

減圧下で運転する希ガス使用設備から排出される排ガス中の希ガスを回収するにあたり、前記排ガスの回収系への導入と排気系への排出との切換え操作を、前記排ガス中に含まれる不純物成分の濃度に応じて行うことを特徴とする希ガスの回収方法。

IPC (2)：

C01B 23/00 ,  B01D 53/46

FI (4)：

C01B 23/00 F ,  C01B 23/00 L ,  C01B 23/00 Z ,  B01D 53/34 120 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 半導体製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-057970   Applicant：株式会社東芝
• ダイヤモンドの気相合成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-303350   Applicant：株式会社不二越
• 特開昭63-239105