半導体ウエハ保持シート及び半導体チップ形成方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：藤本勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997143311
Publication number (International publication number)：1998321563
Application date： May. 16, 1997
Publication date： Dec. 04, 1998
Summary：

【要約】【課題】半導体ウエハをダイシング処理する際の切断面の欠けが発生しにくい半導体ウエハ保持シートを得ること。【解決手段】エネルギー線の照射により20°Cにおける貯蔵弾性率が1×108〜1×1011dyn/cm2の硬化状態を形成する粘着層を支持シートに付設してなる半導体ウエハ保持シート、及びその保持シートにおける粘着層を介して半導体ウエハを接着保持したのち、その粘着層をエネルギー線の照射により前記貯蔵弾性率の状態に硬化処理し、ついで前記の半導体ウエハを所定のチップサイズにダイシングする半導体チップ形成方法。【効果】回転刃の目詰りやチップの振動を抑制してダイシングの際の切断面の欠けを防止でき、チップの歩留まりが大幅に向上する。

Claim (excerpt)：

エネルギー線の照射により20°Cにおける貯蔵弾性率が1×108〜1×1011dyn/cm2の硬化状態を形成する粘着層を支持シートに付設してなることを特徴とする半導体ウエハ保持シート。

IPC (5)：

H01L 21/301 , B65D 85/86 , B65H 37/04 , C09J 7/02 , C09J 9/00

FI (5)：

H01L 21/78 M , B65H 37/04 A , C09J 7/02 Z , C09J 9/00 , B65D 85/38 N

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

ウェハ貼着用粘着シートおよびこれを用いた半導体装置の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-062610 Applicant：日本テキサス・インスツルメンツ株式会社, リンテック株式会社
特開昭63-078547
特開昭63-078547

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