Pat
J-GLOBAL ID:200903094062406569

水処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 中島 淳 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995292850
Publication number (International publication number):1997131587
Application date: Nov. 10, 1995
Publication date: May. 20, 1997
Summary:
【要約】【課題】 修景池や親水公園の人工池、水路等に好適な、安全性が高く、簡単な構造であり、水処理効率が良好で、しかも、高いエネルギーの供給や煩雑なメンテナンスを必要としない水処理装置を提供する。【解決手段】 水処理装置10は、高低差を有する水路16と、低部の排水口14から排出された水を水路16の高部の水供給口12へ送り、水を循環させるポンプ18とを備え、水路16の底部には、表面に光触媒機能を有する酸化チタンを担持させた礫22が配置され、水路16近傍には、酸化チタンに太陽光を反射集光させる集光板24が配置されている。水路16は、水位調整堰26によって区画された多段水路をなしており、水路16の底部には、水路近傍に配置された太陽電池32からエネルギーを供給され、酸化チタンを担持させた礫22へ紫外線を照射するブラックライト28が埋込みで設置されている。
Claim (excerpt):
高低差を有し、高部に水供給口、低部に排水口を設けた水路と、低部の排水口から高部の水供給口へと水を循環させるポンプと備えた水処理装置であって、水路底部に光触媒機能を有する物質を配置し、水路近傍に太陽光を反射集光させて該光触媒機能を有する物質に供給する集光板とを配置した、ことを特徴とする水処理装置。
IPC (4):
C02F 1/30 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/32 ZAB
FI (4):
C02F 1/30 ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 J ,  C02F 1/32 ZAB
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 浄水槽
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-074853   Applicant:平山捷二
  • 水殺菌装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-343494   Applicant:松下電器産業株式会社

Return to Previous Page