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J-GLOBAL ID:200903094117991857
ネガティブトーンマイクロリトグラフィックレジスト組成物及びマイクロリトグラフィックレリーフ画像形成方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
合田 潔 (外5名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994021226
Publication number (International publication number):1994301200
Application date: Feb. 18, 1994
Publication date: Oct. 28, 1994
Summary:
【要約】【目的】 露光領域から未露光領域への酸成分の拡散を最小化し、レリーフ画像寸法制御の維持を補助する。【構成】 ネガティブトーンマイクロリトグラフィックレジスト組成物であって、混合物中に、水性アルカリ現像溶液に可溶で、かつ水性アルカリ現像溶液に本質的に不溶とするために架橋剤との反応により架橋されるポリヒドロキシスチレン樹脂のようなヒドロキシ芳香族ポリマーを含むバインダーと、強い酸触媒との反応によりカルボニウムイオンを形成する架橋剤であって、混合した場合にポリマーバインダーを可塑化しない架橋剤と、放射線への露光で強い酸を形成する酸発生化合物とを含む。
Claim (excerpt):
ネガティブトーンマイクロリトグラフィックレジスト組成物であって、混合物中に、水性アルカリ現像溶液に可溶で、かつ水性アルカリ現像溶液に本質的に不溶とするために架橋剤との反応により架橋されるヒドロキシ芳香族ポリマーを含むバインダーと、強い酸触媒との反応によりカルボニウムイオンを形成する架橋剤であって、混合した場合にポリマーバインダーを可塑化しない架橋剤と、放射線への露光で強い酸を形成する酸発生化合物と、を含むネガティブトーンマイクロリトグラフィックレジスト組成物。
IPC (5):
G03F 7/004 503
, G03F 7/038 505
, G03F 7/30
, G03F 7/38 511
, H01L 21/027
FI (2):
H01L 21/30 502 R
, H01L 21/30 569 F
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-210014
Applicant:日本ゼオン株式会社
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特開平4-151665
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特開平2-154266
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特開平2-015270
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特開平1-293339
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