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J-GLOBAL ID：200903094157024108

ドライエッチング後の側壁残さを除去するための溶液および方法

Inventor： リアウ、ミン-チ ,  チャオ、ティエン-シェン ,  レイ、タン-フ
Applicant, Patent owner： メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング
Agent (1)： 渡辺 勝 (外3名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1997533981
Publication number (International publication number)：2000508082
Application date： Mar. 10, 1997
Publication date： Jun. 27, 2000
Summary：

【要約】本発明は、ドライエッチングプロセス後の側壁残さを除去する新規方法に関する。従来、ドライエッチング後、フォトレジストおよび側壁残さはオゾン灰化および熱硫酸により除去されている。通常、それらは完全に除去することが困難である。本発明において、フッ素含有化合物、好ましくは、フッ化水素およびフッ化アンモニウムを硫酸に添加すると、ストリッパーの必要なくフォトレジストおよび側壁残さが完全に除去されることが発見された。この方法は、単純で、最初の手順または基板上の他のフィルムに影響を与えない。本発明は、硫酸とフッ素含有化合物、好ましくはフッ化水素およびフッ化アンモニウムとを10:1〜1000:1重量比で含んでなる、ドライエッチング後の側壁残さを除去するための新規溶液にも関する。

Claim (excerpt)：

硫酸とフッ素含有化合物とを10:1〜1000:1重量比で含んでなる、ドライエッチング後の側壁残さを除去するための溶液。

IPC (4)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/308

FI (4)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/308 E ,  H01L 21/30 577 ,  H01L 21/302 H

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 基板表面からのレジストの除去方法並びに装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-135752   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開平3-208899